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公开(公告)号：CN107026106B
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN201611235722.0
申请日：2016-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够将附着到杯状件的周壁部的上表面的异物去除的基板处理装置和基板处理方法。实施方式的一技术方案的基板处理装置包括保持部、处理液供给部、杯状件以及清洗液供给部。保持部保持基板。处理液供给部向基板供给处理液。杯状件具有底部、从底部竖立设置的筒状的周壁部、设于周壁部的上方并接收从基板飞散开的处理液的液体接收部以及沿着周向形成于周壁部的上表面的槽部，该杯状件包围保持部。清洗液供给部向周壁部的上表面供给清洗液。
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公开(公告)号：CN110047778B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN201910026268.5
申请日：2019-01-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明能够检测干燥处理后的基片背面的残留液。实施方式的基片处理装置包括保持部、喷嘴、检测部和控制部。保持部保持基片并使其旋转。喷嘴向基片的背面排出处理液。检测部测量对象区域内的物体的温度。控制部控制保持部控制，在进行了干燥处理后，根据检测部的检测结果，判断在基片的背面有无处理液的残留液，其中该干燥处理使基片旋转以从基片甩去处理液来使基片干燥。
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公开(公告)号：CN110047778A
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201910026268.5
申请日：2019-01-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明能够检测干燥处理后的基片背面的残留液。实施方式的基片处理装置包括保持部、喷嘴、检测部和控制部。保持部保持基片并使其旋转。喷嘴向基片的背面排出处理液。检测部测量对象区域内的物体的温度。控制部控制保持部控制，在进行了干燥处理后，根据检测部的检测结果，判断在基片的背面有无处理液的残留液，其中该干燥处理使基片旋转以从基片甩去处理液来使基片干燥。
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公开(公告)号：CN107026106A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201611235722.0
申请日：2016-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 本发明提供一种能够将附着到杯状件的周壁部的上表面的异物去除的基板处理装置和基板处理方法。实施方式的一技术方案的基板处理装置包括保持部、处理液供给部、杯状件以及清洗液供给部。保持部保持基板。处理液供给部向基板供给处理液。杯状件具有底部、从底部竖立设置的筒状的周壁部、设于周壁部的上方并接收从基板飞散开的处理液的液体接收部以及沿着周向形成于周壁部的上表面的槽部，该杯状件包围保持部。清洗液供给部向周壁部的上表面供给清洗液。
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