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公开(公告)号:CN101405842B
公开(公告)日:2010-09-01
申请号:CN200780009418.7
申请日:2007-08-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/26
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/67109 , H01L31/1864 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种不会发生因热的影响导致发光量下降而引起的光能效率低这样的问题,从而能够保持稳定的性能的退火装置。其具有收纳晶片W的处理室1;面对晶片W的面而设置的、具有向晶片W照射光的多个LED33的加热源17a、17b;与加热源17a、17b对应而设置的、透过来自发光元件33的光的光透过部件18a、18b;以支承光透过部件18a、18b的与处理室1相反侧、直接接触上述加热源17a、17b的方式设置的由高热传导性材料构成的冷却部件4a、4b;通过冷却介质对冷却部件4a、4b进行冷却的冷却机构。
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公开(公告)号:CN101405842A
公开(公告)日:2009-04-08
申请号:CN200780009418.7
申请日:2007-08-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/26
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/67109 , H01L31/1864 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种不会发生因热的影响导致发光量下降而引起的光能效率低这样的问题,从而能够保持稳定的性能的退火装置。其具有收纳晶片W的处理室1;面对晶片W的面而设置的、具有向晶片W照射光的多个LED33的加热源17a、17b;与加热源17a、17b对应而设置的、透过来自发光元件33的光的光透过部件18a、18b;以支承光透过部件18a、18b的与处理室1相反侧、直接接触上述加热源17a、17b的方式设置的由高热传导性材料构成的冷却部件4a、4b;通过冷却介质对冷却部件4a、4b进行冷却的冷却机构。
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