公开(公告)号：CN107408529B

公开(公告)日：2020-09-22

申请号：CN201680014297.4

申请日：2016-04-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和也 ,  山本高志

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46

Abstract: 一实施方式的集电环具备：导电性的转子，其能绕旋转轴线旋转；导电性的定子，其与转子同轴地设置；导电性的球体，其配置于转子与定子之间，形成转子与定子之间的电气路径；导电性的螺旋弹簧，其设于转子和定子中的一者与球体之间，相对于旋转轴线沿着周向延伸，该螺旋弹簧与转子、定子中的一者以及球体接触。

公开(公告)号：CN109075064B

公开(公告)日：2023-01-06

申请号：CN201780024736.4

申请日：2017-04-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和也 ,  保坂勇贵 ,  大秦充敬 ,  山本高志

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/683 ,  H05H1/46

Abstract: 等离子体处理装置具备：支承构造体，其支承被加工物；以及第1驱动装置，其构成为，使支承构造体绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转。支承构造体具有：保持部，其包括静电卡盘；以及容器，其设置到保持部的下侧。容器具有：筒状的容器主体；底盖，其封堵容器主体的下侧开口，构成为能够相对于容器主体拆卸。保养方法包括如下工序：使支承构造体绕第1轴线旋转、以使底盖相对于静电卡盘位于上方的工序；将底盖从容器主体拆卸的工序；以及对设置到容器主体内的零部件进行保养的工序。

公开(公告)号：CN115410891A

公开(公告)日：2022-11-29

申请号：CN202210570827.0

申请日：2022-05-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 早坂友辅 ,  佐佐木纯 ,  松本和也 ,  高桥慎伍 ,  永海幸一

IPC: H01J37/32

Abstract: 所公开的等离子体处理装置具备腔室、静电卡盘、第1供电线、及第2供电线。静电卡盘包括在其上搭载基板的第1区域及在其上搭载边缘环的第2区域。第1区域包括第1电极。第2区域包括第2电极。第1供电线将产生施加到第1电极的电压的脉冲的偏置电源和第1电极彼此连接。第2供电线将产生施加到第2电极的电压的脉冲的偏置电源和第2电极彼此连接。第2供电线包括一个以上的插座及一个以上的供电引脚。一个以上的供电引脚在径向上具有挠性，并嵌入于一个以上的插座内。

公开(公告)号：CN107408529A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680014297.4

申请日：2016-04-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和也 ,  山本高志

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46

Abstract: 一实施方式的集电环具备：导电性的转子，其能绕旋转轴线旋转；导电性的定子，其与转子同轴地设置；导电性的球体，其配置于转子与定子之间，形成转子与定子之间的电气路径；导电性的螺旋弹簧，其设于转子和定子中的一者与球体之间，相对于旋转轴线沿着周向延伸，该螺旋弹簧与转子、定子中的一者以及球体接触。

公开(公告)号：CN109075064A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201780024736.4

申请日：2017-04-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和也 ,  保坂勇贵 ,  大秦充敬 ,  山本高志

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/683 ,  H05H1/46

Abstract: 等离子体处理装置具备：支承构造体，其支承被加工物；以及第1驱动装置，其构成为，使支承构造体绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转。支承构造体具有：保持部，其包括静电卡盘；以及容器，其设置到保持部的下侧。容器具有：筒状的容器主体；底盖，其封堵容器主体的下侧开口，构成为能够相对于容器主体拆卸。保养方法包括如下工序：使支承构造体绕第1轴线旋转、以使底盖相对于静电卡盘位于上方的工序；将底盖从容器主体拆卸的工序；以及对设置到容器主体内的零部件进行保养的工序。

公开(公告)号：CN109075063A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201780024567.4

申请日：2017-04-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和也 ,  保坂勇贵 ,  大秦充敬 ,  山本高志

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/683 ,  H05H1/46

Abstract: 等离子体处理装置具备：腔室主体，其提供腔室；支承构造体，其在腔室主体内支承被加工物；以及第1驱动装置，其构成为，使支承构造体在腔室主体内绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转。支承构造体具有：保持部，其包括保持被加工物的静电卡盘，设置成能够绕与第1轴线正交的第2轴线旋转；容器，其设置到保持部的下侧；以及第2驱动装置，其构成为，使保持部绕第2轴线旋转。容器具有筒状的容器主体和使容器主体的下侧开口封闭的底盖。底盖能够从容器主体拆卸。