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发明公开
等离子体处理装置审中-实审

公开(公告)号：CN115410891A

公开(公告)日：2022-11-29

申请号：CN202210570827.0

申请日：2022-05-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 早坂友辅 , 佐佐木纯 , 松本和也 , 高桥慎伍 , 永海幸一

IPC: H01J37/32

Abstract: 所公开的等离子体处理装置具备腔室、静电卡盘、第1供电线、及第2供电线。静电卡盘包括在其上搭载基板的第1区域及在其上搭载边缘环的第2区域。第1区域包括第1电极。第2区域包括第2电极。第1供电线将产生施加到第1电极的电压的脉冲的偏置电源和第1电极彼此连接。第2供电线将产生施加到第2电极的电压的脉冲的偏置电源和第2电极彼此连接。第2供电线包括一个以上的插座及一个以上的供电引脚。一个以上的供电引脚在径向上具有挠性，并嵌入于一个以上的插座内。

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