公开(公告)号：CN103811300A

公开(公告)日：2014-05-21

申请号：CN201310549740.6

申请日：2013-11-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山本浩司 ,  广瀬宽司

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67213 ,  H01L21/6719

Abstract: 本发明要解决的技术问题是在主要利用APC阀进行处理容器内的压力调节的真空装置中，抑制急剧的压力变化。按照步骤S1～步骤S5的步骤，能够抑制处理容器（1）内的压力变化。在步骤S1中，EC（81）取得APC阀（55）的开度，在步骤S2中，利用EC（81）的开度判定部（123）判断步骤S1中取得的APC阀（55）的开度是否已超过第一阈值。当在步骤S2中判定为开度超过第一阈值（是）的情况下，在步骤S3中超过计数器（124）将超过计数值累加1次计数。接着，在步骤S4中，进行由超过计数器（124）计数的超过计数值的累计值是否已超过第二阈值的判定，在判定为超过计数值超过第二阈值（是）的情况下，流量控制部（121a）经由MC（83）对质量流量控制器（MFC）（43）发送控制信号，使得使处理气体的流量减少规定量。

公开(公告)号：CN115298355B

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202180021330.7

申请日：2021-03-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广瀬宽司 ,  神户将臣 ,  宫下晃一 ,  野上隆文 ,  小手健一 ,  饭干耕士

IPC: C23C16/52 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46

Abstract: 提供一种基板的处理方法，包括以下工序：在基板处理装置的腔室内准备基板；基于参照存储有用于计算针对所设定的电力值的校正值Y的式(1)的系数A、B、C、D的存储部、并根据所述式(1)、所述系数A、B、C、D以及表示连续成膜了的基板的处理量的变量X而得到的校正值Y，来校正所设定的所述电力值；以及向所述腔室内施加校正后的所述电力值，来对所准备的所述基板进行处理，其中，所述式(1)表示为Y＝Aexp(BX)+CX+D，所述系数A、C、D中的至少任一方不为0，并且在系数A不为0的情况下系数B也不为0。

公开(公告)号：CN111809166A

公开(公告)日：2020-10-23

申请号：CN202010254572.8

申请日：2020-04-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广瀬胜人 ,  宫下晃一 ,  广瀬宽司 ,  五味晓志 ,  熊谷泰德 ,  吉山敬

IPC: C23C16/52 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明提供一种能够缩短制程时间的处理装置和处理方法。处理装置是进行基板的处理的处理装置，其具备多个终端设备、控制特定的终端设备的下位控制部以及控制部。控制部执行处理基板的制程，来确定制程的多个控制步骤中的满足特定的条件的控制步骤，将确定出的控制步骤发送到下位控制部。下位控制部基于从控制部接收到的控制步骤来控制对应的特定的终端设备。

公开(公告)号：CN115298355A

公开(公告)日：2022-11-04

申请号：CN202180021330.7

申请日：2021-03-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广瀬宽司 ,  神户将臣 ,  宫下晃一 ,  野上隆文 ,  小手健一 ,  饭干耕士

IPC: C23C16/52 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46

Abstract: 提供一种基板的处理方法，包括以下工序：在基板处理装置的腔室内准备基板；基于参照存储有用于计算针对所设定的电力值的校正值Y的式(1)的系数A、B、C、D的存储部、并根据所述式(1)、所述系数A、B、C、D以及表示连续成膜了的基板的处理量的变量X而得到的校正值Y，来校正所设定的所述电力值；以及向所述腔室内施加校正后的所述电力值，来对所准备的所述基板进行处理，其中，所述式(1)表示为Y＝Aexp(BX)+CX+D，所述系数A、C、D中的至少任一方不为0，并且在系数A不为0的情况下系数B也不为0。

公开(公告)号：CN103811300B

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：CN201310549740.6

申请日：2013-11-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山本浩司 ,  广瀬宽司

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明要解决的技术问题是在主要利用APC阀进行处理容器内的压力调节的真空装置中，抑制急剧的压力变化。按照步骤S1～步骤S5的步骤，能够抑制处理容器（1）内的压力变化。在步骤S1中，EC（81）取得APC阀（55）的开度，在步骤S2中，利用EC（81）的开度判定部（123）判断步骤S1中取得的APC阀（55）的开度是否已超过第一阈值。当在步骤S2中判定为开度超过第一阈值（是）的情况下，在步骤S3中超过计数器（124）将超过计数值累加1次计数。接着，在步骤S4中，进行由超过计数器（124）计数的超过计数值的累计值是否已超过第二阈值的判定，在判定为超过计数值超过第二阈值（是）的情况下，流量控制部（121a）经由MC（83）对质量流量控制器（MFC）（43）发送控制信号，使得使处理气体的流量减少规定量。