公开(公告)号：CN111725045B

公开(公告)日：2024-04-16

申请号：CN202010169382.6

申请日：2020-03-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 宫馆孝明 ,  平隆志 ,  永井健治 ,  长﨑秀昭

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供基片处理装置和载置台上是否存在聚焦环的检测方法。基片处理装置包括载置台、光源、聚焦调节部、受光部和控制部。载置台包括用于载置基片的第1载置面和包围第1载置面并用于载置聚焦环的第2载置面。聚焦调节部将来自光源的光聚焦到当聚焦环被载置于第2载置面上时的聚焦环的下表面位置。受光部接收来自聚焦环的下表面位置的光。控制部基于受光部接收到的光，检测第2载置面上是否存在聚焦环。本发明能够检测是否存在配置于载置台上的聚焦环。

公开(公告)号：CN111725045A

公开(公告)日：2020-09-29

申请号：CN202010169382.6

申请日：2020-03-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 宫馆孝明 ,  平隆志 ,  永井健治 ,  长﨑秀昭

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供基片处理装置和载置台上是否存在聚焦环的检测方法。基片处理装置包括载置台、光源、聚焦调节部、受光部和控制部。载置台包括用于载置基片的第1载置面和包围第1载置面并用于载置聚焦环的第2载置面。聚焦调节部将来自光源的光聚焦到当聚焦环被载置于第2载置面上时的聚焦环的下表面位置。受光部接收来自聚焦环的下表面位置的光。控制部基于受光部接收到的光，检测第2载置面上是否存在聚焦环。本发明能够检测是否存在配置于载置台上的聚焦环。

公开(公告)号：CN112309819B

公开(公告)日：2024-11-19

申请号：CN202010731343.0

申请日：2020-07-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 平隆志 ,  菊地孝明

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明提供边缘环、载置台、基片处理装置和基片处理方法。本发明的边缘环包括第一边缘环和第二边缘环，该第二边缘环具有与上述第一边缘环的侧面靠近的侧面，并且能够沿上述第一边缘环的侧面在上下方向上移动，在上述第二边缘环的移动范围内，上述第一边缘环的侧面与上述第二边缘环的侧面至少部分相对。本发明能够抑制在由多个部件构成的边缘环中使一个部件相对于其他部件上下移动时产生的工艺特性的变动。

公开(公告)号：CN112309819A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN202010731343.0

申请日：2020-07-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 平隆志 ,  菊地孝明

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明提供边缘环、载置台、基片处理装置和基片处理方法。本发明的边缘环包括第一边缘环和第二边缘环，该第二边缘环具有与上述第一边缘环的侧面靠近的侧面，并且能够沿上述第一边缘环的侧面在上下方向上移动，在上述第二边缘环的移动范围内，上述第一边缘环的侧面与上述第二边缘环的侧面至少部分相对。本发明能够抑制在由多个部件构成的边缘环中使一个部件相对于其他部件上下移动时产生的工艺特性的变动。