公开(公告)号：CN107275259B

公开(公告)日：2021-11-30

申请号：CN201710201871.3

申请日：2017-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 稻富弘朗 ,  中村徹 ,  木本晃司 ,  清原康雄 ,  冈村聪 ,  枇杷聪 ,  山元伸矢 ,  大川胜宏 ,  矢羽田庆一 ,  中原哲郎

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。防止处理液向干燥处理后的基板转移。在本发明中，具有：使用处理液来对基板进行液处理的液处理部；对由所述液处理部进行了液处理之后的湿润状态的所述基板进行干燥处理的干燥处理部；将处理前的所述基板向所述液处理部输送的第1输送部；从所述液处理部向所述干燥处理部输送湿润状态的所述基板的第2输送部；输送由所述液处理部进行液处理之前的所述基板、并且从所述干燥处理部输送干燥处理后的所述基板的第3输送部，在面对所述第3输送部的一侧配置有所述第1输送部、所述第2输送部以及所述干燥处理部，在面对所述第1输送部和所述第2输送部并与所述第3输送部相反的一侧配置有所述液处理部。

公开(公告)号：CN107275259A

公开(公告)日：2017-10-20

申请号：CN201710201871.3

申请日：2017-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 稻富弘朗 ,  中村徹 ,  木本晃司 ,  清原康雄 ,  冈村聪 ,  枇杷聪 ,  山元伸矢 ,  大川胜宏 ,  矢羽田庆一 ,  中原哲郎

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/024 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/67034

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。防止处理液向干燥处理后的基板转移。在本发明中，具有：使用处理液来对基板进行液处理的液处理部；对由所述液处理部进行了液处理之后的湿润状态的所述基板进行干燥处理的干燥处理部；将处理前的所述基板向所述液处理部输送的第1输送部；从所述液处理部向所述干燥处理部输送湿润状态的所述基板的第2输送部；输送由所述液处理部进行液处理之前的所述基板、并且从所述干燥处理部输送干燥处理后的所述基板的第3输送部，在面对所述第3输送部的一侧配置有所述第1输送部、所述第2输送部以及所述干燥处理部，在面对所述第1输送部和所述第2输送部并与所述第3输送部相反的一侧配置有所述液处理部。