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公开(公告)号：CN119833436A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202411824132.6
申请日：2021-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 兒玉俊昭
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统以及状态监视方法，该基板处理系统具备：基板处理装置，其对处理基板进行处理；基板搬送机构，其具有保持基板的基板保持部，基板搬送机构构成为能够通过基板保持部来保持基板并相对于基板处理装置搬入和搬出该基板；摄像装置，其设置于基板搬送机构，用于拍摄基板处理装置内的监视对象构件；以及控制装置，其中，控制装置使基板保持部移动，并使摄像装置拍摄监视对象构件中的多个部分，该多个部分包括在进行处理时与基板的中央相向的中央部以及在进行处理时与基板的周缘侧相向的周缘部，控制装置基于拍摄结果，针对监视对象构件中的多个部分分别计算表示该部分的状态的物理量。
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公开(公告)号：CN115346903A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210461658.7
申请日：2022-04-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明涉及基板输送装置和基板输送方法。在输送基板时，防止与该基板的输送以及在输送目的地的基板的处理有关的异常的产生。装置构成为包括：支承部，其用于支承基板；移动机构，其使所述支承部沿横向移动，以将所述基板从分别载置该基板的第1载置部向第2载置部输送；以及超声波传感器，其设于所述支承部，以检测在所述第1载置部载置的所述基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114203578B
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202110983213.0
申请日：2021-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 兒玉俊昭
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统以及状态监视方法，该基板处理系统具备：基板处理装置，其对处理基板进行处理；基板搬送机构，其具有保持基板的基板保持部，基板搬送机构构成为能够通过基板保持部来保持基板并相对于基板处理装置搬入和搬出该基板；摄像装置，其设置于基板搬送机构，用于拍摄基板处理装置内的监视对象构件；以及控制装置，其中，控制装置使基板保持部移动，并使摄像装置拍摄监视对象构件中的多个部分，该多个部分包括在进行处理时与基板的中央相向的中央部以及在进行处理时与基板的周缘侧相向的周缘部，控制装置基于拍摄结果，针对监视对象构件中的多个部分分别计算表示该部分的状态的物理量。
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公开(公告)号：CN114203578A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202110983213.0
申请日：2021-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 兒玉俊昭
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统以及状态监视方法，该基板处理系统具备：基板处理装置，其对处理基板进行处理；基板搬送机构，其具有保持基板的基板保持部，基板搬送机构构成为能够通过基板保持部来保持基板并相对于基板处理装置搬入和搬出该基板；摄像装置，其设置于基板搬送机构，用于拍摄基板处理装置内的监视对象构件；以及控制装置，其中，控制装置使基板保持部移动，并使摄像装置拍摄监视对象构件中的多个部分，该多个部分包括在进行处理时与基板的中央相向的中央部以及在进行处理时与基板的周缘侧相向的周缘部，控制装置基于拍摄结果，针对监视对象构件中的多个部分分别计算表示该部分的状态的物理量。
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公开(公告)号：CN115332144B
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202210461620.X
申请日：2022-04-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/677 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和环状构件的高度的估计方法。基板处理系统具备：基板处理装置，其具有用于载置基板和环状构件的载置台，对基板实施规定的处理；基板搬送机构，其具有基板保持部，通过基板保持部来保持基板并相对于基板处理装置搬入和搬出基板；距离传感器，其测定从基板保持部起的距离；以及控制装置，其中，基板搬送机构在载置有环状构件的载置台上载置具有成为环状构件的高度的基准的基准面的治具基板，距离传感器测定从位于载置台的上方的基板保持部起到治具基板的基准面为止的距离、以及从基板保持部起到环状构件为止的距离，控制装置基于到基准面为止的距离和到环状构件为止的距离的测定结果，来估计环状构件的高度。
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公开(公告)号：CN116190299A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202211456600.X
申请日：2022-11-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/677
Abstract: 本公开提供一种基板搬送装置和基板搬送方法，在使用基板搬送模块进行基板以外的搬送物的搬送的情况下也能够进行准确的动作控制。基板搬送装置的控制部调节设置于基板搬送室的底面部的第一磁体的磁力，通过具备第二磁体的基板搬送模块来进行基板的搬送，参数存储部存储用于表现施加于控制用模型的工作力与运动之间的关系的模型参数，所述控制用模型是将搬送物与基板搬送模块一体地表现的模型，控制时间表制作部使用与搬送物对应的模型参数以及规定了基板搬送模块的运动的动作时间表，输出规定了用于使基板搬送模块动作的工作力的控制时间表。磁力调节部执行前馈控制，在该前馈控制中，调节所述第一磁体的磁力，以施加基于控制时间表的所述工作力。
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公开(公告)号：CN115332144A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202210461620.X
申请日：2022-04-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/677 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和环状构件的高度的估计方法。基板处理系统具备：基板处理装置，其具有用于载置基板和环状构件的载置台，对基板实施规定的处理；基板搬送机构，其具有基板保持部，通过基板保持部来保持基板并相对于基板处理装置搬入和搬出基板；距离传感器，其测定从基板保持部起的距离；以及控制装置，其中，基板搬送机构在载置有环状构件的载置台上载置具有成为环状构件的高度的基准的基准面的治具基板，距离传感器测定从位于载置台的上方的基板保持部起到治具基板的基准面为止的距离、以及从基板保持部起到环状构件为止的距离，控制装置基于到基准面为止的距离和到环状构件为止的距离的测定结果，来估计环状构件的高度。
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