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公开(公告)号：CN119063637A
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202410638969.5
申请日：2024-05-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供能够高精度地推算形成于基片的对象膜的形状的特性值的形状特性值推算装置、形状特性值推算方法和存储介质。形状特性值推算装置(CD推算装置)具有处理后图像获取部(102)、推算部(104)、处理前基片影响模型创建部(107)和推算结果修正部(108)。处理前基片影响模型创建部(107)将多个处理后图像分为第1集合和第2集合；基于第1集合创建作为处理前基片影响模型的候选的第1候选，并且基于第2集合创建作为处理前基片影响模型的候选的第2候选；将推算结果修正部(108)基于第1候选对推算结果进行修正后的结果与推算结果修正部(108)基于第2候选对推算结果进行修正后的结果进行比较，来决定处理前基片影响模型。
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公开(公告)号：CN109560016B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN201811119272.8
申请日：2018-09-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置能够抑制装置的大型化并且确认基板的周缘部的状态。实施方式所涉及的基板处理装置具备搬入搬出站、交接站、处理站以及摄像单元。搬入搬出站具有将基板从盒取出并且进行搬送的第一搬送装置。交接站与搬入搬出站相邻地配置，具有用于载置由第一搬送装置搬送的基板的基板载置部。处理站与交接站相邻地配置，具有用于将基板从基板载置部取出并进行搬送的第二搬送装置以及用于对由第二搬送装置搬送来的基板进行处理的多个处理单元。摄像单元配置于交接站，用于拍摄基板的上表面和下表面中的一个面的周缘部和基板的端面。
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公开(公告)号：CN114664680A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202111544428.9
申请日：2021-12-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/66 , H01L21/67 , H01L21/027 , G06T7/00 , G06T7/90
Abstract: 本发明提供估计模型制作装置、估计模型制作方法以及存储介质。估计模型制作装置具有：处理后图像获取部，其获取与被进行了膜处理的基板的表面有关的图像信息即处理后图像；基底图像获取部，其获取与被进行膜处理前的处理前基板的表面有关的图像信息即处理前图像；灰度值估计模型制作部，其制作根据处理前图像中包含的与基板的表面的颜色有关信息来估计处理后图像中包含的与基板的表面的颜色有关的信息的颜色变化估计模型；以及相关性估计模型制作部，其制作求出处理后图像中包含的与基板的表面的颜色有关的信息同由颜色变化估计模型估计出的结果之差并估计该差与进行膜处理所得到的对象膜的形状特性值之间的相关性的相关性估计模型。
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公开(公告)号：CN111650813B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202010120395.4
申请日：2020-02-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板检查装置及方法、以及记录介质，能够根据图像数据更可靠地检测多个边缘中的检查对象的边缘。基板检查装置具备：存储部，其构成为存储检查制程以及根据形成有多个覆膜的基板的周缘部的摄像图像得到的检查图像数据；以及边缘检测部，其构成为使用存储部中存储的检查制程并且基于存储部中存储的检查图像数据来检测多个覆膜中的检查对象覆膜的边缘即对象边缘。多个覆膜各自的边缘沿基板的周缘延伸。检查制程是将多个从多个选项之中确定出一个选项所得到的参数进行组合来构成的。
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公开(公告)号：CN110018616B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN201811519531.6
申请日：2018-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明的技术问题为，在图案曝光后进行的使用LED的曝光处理装置中，避免由因LED的温度变化而发光状态改变所导致的处理中产生故障的情况。本发明的解决方案为，将从向壳体(10)内的送入晶片(W)时起至曝光后的晶片(W)的送出准备结束的时刻为止作为一个循环。将一个循环结束后下一循环开始为止产生的时间段设为待机时间段。当设空闲发光时、曝光时的照度分别为Id、Is，设空闲发光、曝光的时间分别为Td、Ts时，以Id＝(Tp/Td)·Iw－(Ts/Td)·Is的方式来决定Id，由此基片间的一个循环内的平均照度成为一定的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111650813A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010120395.4
申请日：2020-02-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板检查装置及方法、以及记录介质，能够根据图像数据更可靠地检测多个边缘中的检查对象的边缘。基板检查装置具备：存储部，其构成为存储检查制程以及根据形成有多个覆膜的基板的周缘部的摄像图像得到的检查图像数据；以及边缘检测部，其构成为使用存储部中存储的检查制程并且基于存储部中存储的检查图像数据来检测多个覆膜中的检查对象覆膜的边缘即对象边缘。多个覆膜各自的边缘沿基板的周缘延伸。检查制程是将多个从多个选项之中确定出一个选项所得到的参数进行组合来构成的。
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公开(公告)号：CN110018616A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201811519531.6
申请日：2018-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明的技术问题为，在图案曝光后进行的使用LED的曝光处理装置中，避免由因LED的温度变化而发光状态改变所导致的处理中产生故障的情况。本发明的解决方案为，将从向壳体(10)内的送入晶片(W)时起至曝光后的晶片(W)的送出准备结束的时刻为止作为一个循环。将一个循环结束后下一循环开始为止产生的时间段设为待机时间段。当设空闲发光时、曝光时的照度分别为Id、Is，设空闲发光、曝光的时间分别为Td、Ts时，以Id＝(Tp/Td)·Iw－(Ts/Td)·Is的方式来决定Id，由此基片间的一个循环内的平均照度成为一定的。
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公开(公告)号：CN118466120A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410391550.4
申请日：2020-02-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板检查装置及方法、以及记录介质，能够根据图像数据更可靠地检测多个边缘中的检查对象的边缘。基板检查装置具备：存储部，其构成为存储检查制程以及根据形成有多个覆膜的基板的周缘部的摄像图像得到的检查图像数据；以及边缘检测部，其构成为使用存储部中存储的检查制程并且基于存储部中存储的检查图像数据来检测多个覆膜中的检查对象覆膜的边缘即对象边缘。多个覆膜各自的边缘沿基板的周缘延伸。检查制程是将多个从多个选项之中确定出一个选项所得到的参数进行组合来构成的。
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公开(公告)号：CN113284822A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110180780.2
申请日：2021-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明说明对基于基片的表面图像，以高可靠性评价基片的表面的处理状态有效的信息处理方法、信息处理装置和计算机可读取的存储介质。信息处理方法的一个例子可以包括：获取对象基片的表面的变形因子的信息的步骤；获取对象基片的表面图像的步骤；基于表面的变形因子的信息计算补偿因表面的变形导致的图像变化的校正系数的步骤；和使用校正系数校正对象基片的表面图像，生成对象基片的校正图像的步骤。
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公开(公告)号：CN113032950A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202011381443.1
申请日：2020-12-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及形状特性值推算装置、形状特性值推算方法和存储介质。形状特性值推算装置包括：获取处理后图像的处理后图像获取部，该处理后图像包括形成有对象膜的基片的表面的图像信息；对处理后图像应用用于推算对象膜的形状特性值的推算模型推算形状特性值的推算部，该推算模型涉及处理后图像中的基片表面的颜色的信息与对象膜的形状特性值之间的相关性；生成基底影响模型的基底影响模型生成部，该基底影响模型涉及对象膜的形状特性值的推算结果和不使用推算模型获得的形状特性值之差分、与基底基片表面的颜色的信息之间相关性；以及基于基底影响模型校正推算结果的推算结果校正部。本发明能够更高精度地推算形成于对象基片的膜的形状的特性值。
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