公开(公告)号：CN108570663B

公开(公告)日：2023-02-21

申请号：CN201810196480.1

申请日：2018-03-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐佐木优 ,  高桥宏辅 ,  早濑文朗

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明涉及成膜装置。提供一种能够将在旋转台的上方侧形成的第一处理区域的气氛与第二处理区域的气氛有效地分离的成膜装置。成膜处理装置设置在真空容器内，对旋转的旋转台上载置的基板供给处理气体来进行成膜处理。在旋转台的上方设置有被分离区域相互分离的第一处理区域、第二处理区域。构成各分离区域的分离区域形成构件沿径向延伸且相互隔开间隔地设置，分离区域形成构件具有缘部和凹部，该缘部与旋转台之间形成狭窄的间隙，该凹部设置于被缘部夹着的区域，用于形成高度尺寸比所述狭窄的间隙的高度尺寸大的缓冲空间，从分离气体供给部朝向缓冲空间内供给分离气体。

公开(公告)号：CN112626498A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN202010982683.0

申请日：2020-09-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐佐木优 ,  城俊彦 ,  加藤寿 ,  高桥宏辅

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/455 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明涉及成膜装置和成膜方法。提供一种能够以较高的精度调整膜厚的面内分布的技术。本公开的一方式的成膜装置包括：处理室；旋转台，其设于所述处理室内，具有能够在上表面沿着周向载置基板的基板载置区域；原料气体供给部，其设于所述旋转台的上方，沿着所述旋转台的半径方向延伸；多个辅助气体供给部，其相对于所述原料气体供给部设于所述旋转台的旋转方向上的下游侧处的所述旋转台的上方，沿着所述旋转台的所述半径方向具有规定间隔地设置；以及气体排气部，其相对于所述辅助气体供给部设于所述旋转台的旋转方向上的下游侧处的所述旋转台的上方，沿着所述旋转台的所述半径方向延伸。

公开(公告)号：CN108570663A

公开(公告)日：2018-09-25

申请号：CN201810196480.1

申请日：2018-03-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐佐木优 ,  高桥宏辅 ,  早濑文朗

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/4584 ,  C23C16/405 ,  C23C16/45519 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/46 ,  C23C16/52 ,  C23C16/45563

Abstract: 本发明涉及成膜装置。提供一种能够将在旋转台的上方侧形成的第一处理区域的气氛与第二处理区域的气氛有效地分离的成膜装置。成膜处理装置设置在真空容器内，对旋转的旋转台上载置的基板供给处理气体来进行成膜处理。在旋转台的上方设置有被分离区域相互分离的第一处理区域、第二处理区域。构成各分离区域的分离区域形成构件沿径向延伸且相互隔开间隔地设置，分离区域形成构件具有缘部和凹部，该缘部与旋转台之间形成狭窄的间隙，该凹部设置于被缘部夹着的区域，用于形成高度尺寸比所述狭窄的间隙的高度尺寸大的缓冲空间，从分离气体供给部朝向缓冲空间内供给分离气体。