公开(公告)号：CN115769346A

公开(公告)日：2023-03-07

申请号：CN202180045439.4

申请日：2021-06-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小佐井一树 ,  井上大诚 ,  高松祐助 ,  大塚贵久 ,  天井胜 ,  菅野至 ,  矢野洋

IPC: H01L21/304

Abstract: 实施方式所涉及的液处理装置具备贮存罐、第一循环线路以及第二循环线路。贮存罐贮存处理液。第一循环线路用于使从贮存罐送出的处理液通过第一过滤器后返回到贮存罐。第二循环线路与第一循环线路连接，第二循环线路用于使处理液通过第二过滤器后返回到贮存罐。第二循环线路的流路的长度比第一循环线路的流路的长度短。向第二循环线路流入的处理液的流量比向第一循环线路的比第一循环线路与第二循环线路的连接部位靠下游侧的位置流入的处理液的流量少。第二过滤器中的每单位时间的过滤量比第一过滤器中的每单位时间的过滤量少。

公开(公告)号：CN112908890A

公开(公告)日：2021-06-04

申请号：CN202011327053.6

申请日：2020-11-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 井上大诚 ,  樱井宏纪 ,  中泽贵士

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明的目的在于提供高精度地蚀刻基片的基片处理装置和基片处理方法。实施方式的基片处理装置包括温度检测部、计算部和执行部。温度检测部检测被供给了处理液的基片的温度。计算部使用给定的计算式计算基于由温度检测部检测到的温度的基片的蚀刻量。执行部基于蚀刻量执行用处理液进行的基片的蚀刻处理。

公开(公告)号：CN113838774A

公开(公告)日：2021-12-24

申请号：CN202110666079.1

申请日：2021-06-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小佐井一树 ,  高松祐助 ,  井上大诚

IPC: H01L21/67 ,  F17D1/14 ,  F17D3/01

Abstract: 本发明提供能够提高处理液的清洁度的液处理装置和液处理方法。本发明的实施方式的液处理装置包括储存罐、循环管线、供给管线、返回管线和至少一个过滤器。储存罐用于储存处理液。循环管线用于使从储存罐输送的处理液返回到储存罐。供给管线用于将循环管线和向基片供给处理液的供给部连接。返回管线与供给管线连接，用于使处理液从供给管线返回到储存罐。过滤器设置在供给管线的比返回管线与供给管线的连接部位靠上游侧的位置和返回管线中的至少一者，用于除去处理液中的异物。