公开(公告)号：CN114823270A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202210060132.8

申请日：2022-01-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中川太一 ,  天野健次 ,  末木英人 ,  大森贵史 ,  远藤健一

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明涉及紧固构造、等离子体处理装置以及紧固方法。在将构成基板处理装置的构件彼此利用紧固螺纹件紧固的紧固构造中，抑制因构件间的热膨胀差而紧固螺纹件变形。一种将构成基板处理装置的第1、第2构件利用紧固螺纹件紧固的紧固构造，第1构件具有内螺纹部，紧固螺纹件具有螺纹件头部和形成有与内螺纹部螺合的外螺纹部的螺纹件杆部，第2构件具有供螺纹件杆部贯穿的贯通孔，紧固构造具备在螺纹件头部与第2构件之间重叠地配置并供螺纹件杆部贯穿的第1、第2垫圈，贯通孔的截面是长圆形状，第1垫圈配置于螺纹件头部那侧并具有供螺纹件杆部贯穿的孔，第2垫圈配置于第2构件那侧并具有供螺纹件杆部贯穿的长圆形状的孔和向贯通孔插入的突出部。

公开(公告)号：CN118538591A

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202410177420.0

申请日：2024-02-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 齐藤均 ,  佐佐木和男 ,  中川太一 ,  佐佐木芳彦

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供抑制副产物在罩构件沉积的等离子体处理装置和基板处理方法。一种等离子体处理装置，其在处理容器的内部生成等离子体而对基板进行处理，其具备：金属窗，其配置于处理容器的上部；以及电感耦合天线，其与金属窗分离地配置于金属窗的上部，金属窗具有：多个部分窗；绝缘构件，其配置于多个部分窗之间以及多个部分窗与处理容器的壁部之间，使多个部分窗彼此电绝缘或者使多个部分窗与处理容器的壁部电绝缘；罩构件，其覆盖绝缘构件的下部，以防止绝缘构件的下部在处理容器的内部暴露；以及导电体层，其设于罩构件的内部或表面，导电体层在罩构件形成环状部的部分具有使导电体层不连续的不连续部，以防止导电体层在电学上形成闭合电路。