系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法

    公开(公告)号:CN1300636C

    公开(公告)日:2007-02-14

    申请号:CN200410044713.4

    申请日:2004-05-17

    Abstract: 一种正型光致抗蚀剂组合物,是在一个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其中含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二叠氮基酯化物、(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物、以及(D)有机溶剂,(B)成分中含有下述通式(I)所表示的化合物和1,2-萘醌二叠氮基-4-磺酰化合物的酯化反应生成物。根据本发明可以提供适用于系统LCD制造的、可同时满足高感度和高分辨型的正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法。

    LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法

    公开(公告)号:CN1720484B

    公开(公告)日:2010-05-05

    申请号:CN200380104752.2

    申请日:2003-12-05

    CPC classification number: G03F7/0236

    Abstract: 一种LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,含有:(A)含有使含3,4-二甲苯酚5-30摩尔%、间甲酚40-95摩尔%、其它酚类0-30摩尔%的酚类和含甲醛60摩尔%以上且以丙醛与甲醛的摩尔比为10∶90~30∶70的比例含有丙醛的混合醛类进行缩合反应而得到的碱溶性酚醛清漆树脂的碱溶性树脂成分,(B)萘醌二叠氮基酯化物,(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物,(D)含有丙二醇单烷基醚乙酸酯的有机溶剂。本发明还提供了使用该组合物的抗蚀图的形成方法。通过本发明,即使在低NA条件下也可获得良好的分辨力。另外,由于NA条件下的线性也良好,所以适合用于系统LCD的制造。

    LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法

    公开(公告)号:CN1229690C

    公开(公告)日:2005-11-30

    申请号:CN200410002210.0

    申请日:2004-01-15

    Abstract: 本发明提供一种LCD制造用的抗蚀剂材料,该抗蚀剂材料是LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,包括(A)碱可溶性树脂,(B)聚苯乙烯换算质均分子量为300-1300的低分子量酚醛清漆树脂和萘醌二叠氮磺酸化合物的、平均酯化率为30-90%的酯化反应生成物,(C)分子量为1000以下的含有酚性羟基的化合物,(D)有机溶剂。根据本发明的抗蚀剂组合物,即使在低NA条件下,也能够以高的析像度形成抗蚀图形,优选线性良好抗蚀剂组合物。

    LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法

    公开(公告)号:CN1519648A

    公开(公告)日:2004-08-11

    申请号:CN200410002210.0

    申请日:2004-01-15

    Abstract: 本发明提供一种LCD制造用的抗蚀剂材料,该抗蚀剂材料是LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,包括(A)碱可溶性树脂,(B)聚苯乙烯换算质均分子量为300-1300的低分子量酚醛清漆树脂和萘醌二叠氮磺酸化合物的、平均酯化率为30-90%的酯化反应生成物,(C)分子量为1000以下的含有酚性羟基的化合物,(D)有机溶剂。根据本发明的抗蚀剂组合物,即使在低NA条件下,也能够以高的析像度形成抗蚀图形,优选线性良好抗蚀剂组合物。

    系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法

    公开(公告)号:CN1573544A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN200410044713.4

    申请日:2004-05-17

    Abstract: 一种正型光致抗蚀剂组合物,是在一个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其中含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二叠氮基酯化物、(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物、以及(D)有机溶剂,(B)成分中含有上述通式(I)所表示的化合物和1,2-萘醌二叠氮基-4-磺酰化合物的酯化反应生成物。根据本发明可以提供适用于系统LCD制造的、可同时满足高感度和高分辨型的正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法。

    正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法

    公开(公告)号:CN1484095A

    公开(公告)日:2004-03-24

    申请号:CN03154301.4

    申请日:2003-08-14

    Abstract: 一种正型光致抗蚀剂组合物,是用于制造在1个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD的正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,含有从由(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二迭氮酯化物、(C)用上述通式(I)表示的化合物组成的组中选择的至少1种含酚性羟基化合物;及(D)有机溶剂[式中,R1-R6分别独立表示氢原子、卤原子、碳数1-6的烷基、或碳数1-6的烷氧基,R7表示氢原子或碳数1-6的烷基,a和b分别独立表示1-3的整数]。根据本发明,可以提供在NA为0.2以下的适于制造系统LCD的低NA条件下也可以形成2.0微米以下的微细抗蚀图案且具有良好线性的抗蚀材料。

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