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公开(公告)号：CN1520534A
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：CN02812972.5
申请日：2002-06-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/11 , Y10S430/106
Abstract: 本发明提供一种光刻胶组合物，其包括(A)多羟基苯乙烯，其中至少一部分羟基氢原子被可酸离解的溶解抑制基团取代，并且当可酸离解的溶解抑制基团被酸的作用消除时，多羟基苯乙烯在碱性溶液中的溶解度增大，和(B)通过使用放射线照射能够产生酸的组分，其中在使用盐酸的离解试验后，组分(A)的可酸离解的溶解抑制基团的保留率为40％或更小，还提供一种含有多羟基苯乙烯的化学放大型阳性光刻胶组合物，所述代替组分(A)的多羟基苯乙烯中至少一部分羟基氢原子被含有直链或支链烷氧基的低级烷氧基－烷基取代，并且当所述低级烷氧基－烷基被酸的作用消除时，多羟基苯乙烯在碱性溶液中的溶解度增大。
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公开(公告)号：CN1289966C
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN200410068341.9
申请日：2004-08-31
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045
Abstract: 一种可以在分辨率、LER降低和缺陷水平降低方面得到改进的正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法。该组合物和方法提供：一种包含树脂组分(A)的正型光刻胶组合物以及一种使用这种组合物形成光刻胶图案的方法，所述的树脂组分(A)含有由下面所示的通式(1)表示的衍生自(α-甲基)羟基苯乙烯的结构单元(a1)和由下面所示的通式(2)表示的结构单元(a2)，其中组分(A)在2.38重量%的TMAH(氢氧化四甲铵)的水溶液中的溶解速率为100至1000/秒：(其中在通式(1)和(2)中，R表示氢原子或甲基)。
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公开(公告)号：CN1698016A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200480000692.4
申请日：2004-05-19
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/12 , Y10S430/122
Abstract: 本发明提供了一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，它具有极好的以抗蚀剂溶液形式在瓶中储存的稳定性。酚醛清漆树脂或羟基苯乙烯树脂与交联剂反应给出微溶于碱或不溶于碱的树脂，它具有在酸存在下可提高其在碱性水溶液中溶解度的这种特性，然后这种树脂溶于有机溶剂，与(B)在射线照射下产生酸的一种化合物一起得到化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，其中酸性成分的含量为10ppm或10ppm以下。
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公开(公告)号：CN1573550A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410045257.5
申请日：2004-06-04
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0397
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有通过酸的作用可增大碱溶性的树脂成分(A)、和通过曝光可产生酸的酸产生剂成分(B)，其特征在于上述(A)成分中含有由羟基苯乙烯衍生的结构单元(a1)、和下记通式(I)所示的由(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a2)，上述(B)成分中作为主要成分含有重氮甲烷类酸产生剂。根据本发明可以提供一种可改善抗蚀图案侧壁的驻波态的正型抗蚀剂组合物、以及使用该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案的形成方法。
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公开(公告)号：CN1692314B
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：CN200380100580.1
申请日：2003-10-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0392
Abstract: 公开了一种化学放大正性光致抗蚀剂组合物，其对不同类型的抗蚀图形具有极好的灵敏度和图形分辨率，呈高曝光极限和聚焦深度宽容度。必要组分包括(A)能通过与酸反应来增加碱溶解度的树脂和(B)一种产生酸的化合物，成分(A)是第一树脂(a1)和第二树脂(a2)的组合，第一树脂(a1)和第二树脂(a2)各是用酸可离解的、降低溶解度的取代基团部分取代羟基氢原子的羟基苯乙烯基共聚树脂。特征地，除了质均分子量不同，(a1)质均分子量高而(a2)质均分子量低以外，在(a1)树脂中取代基的酸离解性高于在(a2)树脂中的酸离解性如在(a1)的1-乙氧基乙基和(a2)的四氢吡喃基的组合。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100510960C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200510074388.0
申请日：2005-05-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 新田和行
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其含有具有酸离解性溶解抑制基并且在酸的作用下碱溶性增大的树脂成分(A)、通过曝光产生酸的酸发生剂(B)和用下述通式(1)表示的化合物(C)。(式中，R1和R3分别独立地表示氢原子、碳原子数1-3的烷基、或者碳原子数4-6的环烷基，n是1-3的整数，R1和R3的至少一个是碳原子数4-6的环烷基。R2表示碳原子数1-3的烷基，X表示碳原子数4或者5的亚烷基)。
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公开(公告)号：CN100507716C
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200510106370.4
申请日：2002-06-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种光刻胶组合物，其包括(A)聚羟基苯乙烯，其中至少一部分羟基氢原子被可酸离解的溶解抑制基团取代，并且当可酸离解的溶解抑制基团被酸的作用消除时，聚羟基苯乙烯在碱性溶液中的溶解度增大，和(B)通过使用放射线照射能够产生酸的组分，其中在使用盐酸的离解试验后，组分(A)的可酸离解的溶解抑制基团的保留率为40%或更小，还提供一种含有聚羟基苯乙烯的化学放大型阳性光刻胶组合物，所述代替组分(A)的聚羟基苯乙烯中至少一部分羟基氢原子被含有直链或支链烷氧基的低级烷氧基-烷基取代，并且当所述低级烷氧基-烷基被酸的作用消除时，聚羟基苯乙烯在碱性溶液中的溶解度增大。
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公开(公告)号：CN100410810C
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN200410049012.X
申请日：2004-06-11
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有通过酸的作用而碱溶性增大的树脂(A)、通过曝光可产生酸的酸发生剂(B)和聚丙二醇(C)，该树脂(A)中含有包含衍生自羟基苯乙烯的第1结构单元(a1)、以及衍生自具有醇性羟基的(甲基)丙烯酸酯的第2结构单元(a2)且重均分子量在2000以上、8500以下而且所述结构单元(a1)的羟基和所述结构单元(a2)的醇性羟基的总计量的10摩尔%以上、25摩尔%以下被酸离解性溶解抑制基所保护的共聚物。
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公开(公告)号：CN1310092C
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200410045257.5
申请日：2004-06-04
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0397
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有通过酸的作用可增大碱溶性的树脂成分(A)、和通过曝光可产生酸的酸产生剂成分(B)，其特征在于上述(A)成分中含有由羟基苯乙烯衍生的结构单元(a1)、和下记通式(I)所示的由(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a2)，上述(B)成分中作为主要成分含有重氮甲烷类酸产生剂。根据本发明可以提供一种可改善抗蚀图案侧壁的驻波态的正型抗蚀剂组合物、以及使用该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案的形成方法。
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公开(公告)号：CN1916763A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200610151829.7
申请日：2004-06-04
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0397
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有通过酸的作用可增大碱溶性的树脂成分(A)、和通过曝光可产生酸的酸产生剂成分(B)，其特征在于上述(A)成分中含有由羟基苯乙烯衍生的结构单元(a1)、和下记通式(I)所示的由(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a2)，上述(B)成分中作为主要成分含有重氮甲烷类酸产生剂。根据本发明可以提供一种可改善抗蚀图案侧壁的驻波态的正型抗蚀剂组合物、以及使用该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案的形成方法。
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