公开(公告)号：CN1461766A

公开(公告)日：2003-12-17

申请号：CN03140710.2

申请日：2003-05-30

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 石桥智明 ,  杉山博保 ,  大脇寿树

IPC: C08J5/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由上面的通式表示的化合物：字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。

公开(公告)号：CN1234798C

公开(公告)日：2006-01-04

申请号：CN02107700.2

申请日：2002-03-29

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 安福昇 ,  大脇寿树 ,  横道典孝 ,  平野淳一

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02

Abstract: 本发明提供了研磨速度较快、可防止刮痕的产生、并可减小表面粗度的用于研磨存储硬盘的组合物及使用了该组合物的存储硬盘的制造方法。该组合物包含水，二氧化硅，氧化剂及至少1种选自苹果酸、马来酸、乳酸、乙酸、柠檬酸、琥珀酸、富马酸、乙醇酸、己二酸、抗坏血酸、衣康酸、亚氨基二乙酸、乙醛酸、甲酸、丙烯酸、巴豆酸、烟酸、柠康檬酸及酒石酸的有机酸，所述组合物的pH值在1以上但不到7，且组合物中实质上不含有金属离子。

公开(公告)号：CN1379074A

公开(公告)日：2002-11-13

申请号：CN02107700.2

申请日：2002-03-29

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 安福昇 ,  大脇寿树 ,  横道典孝 ,  平野淳一

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02

Abstract: 本发明提供了研磨速度较快、可防止刮痕的产生、并可减小表面粗度的用于研磨存储硬盘的组合物及使用了该组合物的存储硬盘的制造方法。该组合物包含水,二氧化硅,氧化剂及至少1种选自苹果酸、马来酸、乳酸、乙酸、柠檬酸、琥珀酸、富马酸、乙醇酸、己二酸、抗坏血酸、衣康酸、亚氨基二乙酸、乙醛酸、甲酸、丙烯酸、巴豆酸、烟酸、柠康檬酸及酒石酸的有机酸,所述组合物的pH值在1以上但不到7,且组合物中实质上不含有金属离子。