公开(公告)号：CN1427055A

公开(公告)日：2003-07-02

申请号：CN02157402.2

申请日：2002-12-17

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 神谷知秀 ,  平野淳一 ,  安福昇 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/18

CPC classification number: B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/14 ,  G11B5/84

Abstract: 一种用于对磁盘基片进行抛光的抛光组合物，它包含(A)选自磷酸盐和磷化合物中的一种组分，或者选自磷酸、磷酸盐和磷化合物中的两种组分，(B)二氧化硅和(C)水，其特征在于：当(A)化合物只含有膦酸时，不含(D)硝酸铝。

公开(公告)号：CN1285686C

公开(公告)日：2006-11-22

申请号：CN02157402.2

申请日：2002-12-17

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 神谷知秀 ,  平野淳一 ,  安福昇 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/18

CPC classification number: B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/14 ,  G11B5/84

Abstract: 一种用于对磁盘基片进行抛光的抛光组合物，它包含(A)选自磷酸盐和磷化合物中的一种组分，或者选自磷酸、磷酸盐和磷化合物中的两种组分，(B)二氧化硅和(C)水，其特征在于：当(A)化合物只含有膦酸时，不含(D)硝酸铝。

公开(公告)号：CN1379074A

公开(公告)日：2002-11-13

申请号：CN02107700.2

申请日：2002-03-29

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 安福昇 ,  大脇寿树 ,  横道典孝 ,  平野淳一

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02

Abstract: 本发明提供了研磨速度较快、可防止刮痕的产生、并可减小表面粗度的用于研磨存储硬盘的组合物及使用了该组合物的存储硬盘的制造方法。该组合物包含水,二氧化硅,氧化剂及至少1种选自苹果酸、马来酸、乳酸、乙酸、柠檬酸、琥珀酸、富马酸、乙醇酸、己二酸、抗坏血酸、衣康酸、亚氨基二乙酸、乙醛酸、甲酸、丙烯酸、巴豆酸、烟酸、柠康檬酸及酒石酸的有机酸,所述组合物的pH值在1以上但不到7,且组合物中实质上不含有金属离子。

公开(公告)号：CN1854224A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：CN200610084745.6

申请日：2002-12-17

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 神谷知秀 ,  平野淳一 ,  安福昇 ,  横道典孝 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04

CPC classification number: B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/14 ,  G11B5/84

Abstract: 一种用于对磁盘基片进行抛光的抛光组合物，它包含(A)选自磷酸、磷酸盐和焦磷酸、膦酸、次膦酸、羟亚乙基二膦酸、次氮基三(亚甲基膦酸)、膦酰基丁烷三羧酸及其盐中的至少一种组分，(B)胶态二氧化硅，(C)水和(E)乙二胺四乙酸二铵铁。

公开(公告)号：CN1234798C

公开(公告)日：2006-01-04

申请号：CN02107700.2

申请日：2002-03-29

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 安福昇 ,  大脇寿树 ,  横道典孝 ,  平野淳一

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02

Abstract: 本发明提供了研磨速度较快、可防止刮痕的产生、并可减小表面粗度的用于研磨存储硬盘的组合物及使用了该组合物的存储硬盘的制造方法。该组合物包含水，二氧化硅，氧化剂及至少1种选自苹果酸、马来酸、乳酸、乙酸、柠檬酸、琥珀酸、富马酸、乙醇酸、己二酸、抗坏血酸、衣康酸、亚氨基二乙酸、乙醛酸、甲酸、丙烯酸、巴豆酸、烟酸、柠康檬酸及酒石酸的有机酸，所述组合物的pH值在1以上但不到7，且组合物中实质上不含有金属离子。