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公开(公告)号：CN1461766A
公开(公告)日：2003-12-17
申请号：CN03140710.2
申请日：2003-05-30
Applicant: 不二见株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由上面的通式表示的化合物：字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1230480C
公开(公告)日：2005-12-07
申请号：CN01142936.4
申请日：2001-11-29
Applicant: 不二见株式会社
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02 , G11B5/8404
Abstract: 一种用于存储器硬盘用基片的抛光组合物，包含下列组分：(a)水，(b)至少一种选自聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚和聚氧乙烯聚氧丙烯共聚物的化合物，(c)至少一种选自下列的化合物：硝酸、亚硝酸、硫酸、盐酸、钼酸、氨基磺酸、甘氨酸、甘油酸、苯乙醇酸、丙二酸、抗坏血酸、谷氨酸、二羟乙酸、苹果酸、乙醇酸、乳酸、葡糖酸、琥珀酸、酒石酸、马来酸、柠檬酸以及它们的盐，(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和碳化硅的磨料。
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公开(公告)号：CN1288920A
公开(公告)日：2001-03-28
申请号：CN00128846.6
申请日：2000-09-21
Applicant: 不二见株式会社
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 用于用作存储硬盘的磁盘基片的抛光组合物,它含有:(a):水;(b):至少一种选自乙氧基化的烷基醇的磷酸酯、乙氧基化的芳基醇的磷酸酯的磷酸酯化合物;(c):成分(b)的磷酸酯化合物之外的至少一种选自无机酸、有机酸、及它们的盐的抛光促进剂;(d):至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰的研磨剂。
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公开(公告)号：CN1230481C
公开(公告)日：2005-12-07
申请号：CN02154315.1
申请日：2002-11-28
Applicant: 不二见株式会社
Inventor： 石桥智明
IPC: C09G1/18
CPC classification number: G11B5/8404 , C09G1/02
Abstract: 一种磁盘基材的抛光组合物，它含有：(a)抛光促进剂，该促进剂包含至少一种选自苹果酸、乙醇酸、丁二酸、柠檬酸、马来酸、衣康酸、丙二酸、亚氨基二乙酸、葡萄糖酸、乳酸、扁桃酸、巴豆酸、烟酸、硝酸铝、硫酸铝和硝酸铁(III)的化合物；(b)边缘下陷阻止剂，该阻止剂含有至少一种选自聚乙烯基吡咯烷酮、聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯和聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酸酯的化合物；(c)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛和碳化硅的研磨剂，和(d)水。
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公开(公告)号：CN1357586A
公开(公告)日：2002-07-10
申请号：CN01142936.4
申请日：2001-11-29
Applicant: 不二见株式会社
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02 , G11B5/8404
Abstract: 一种用于存储器硬盘用基片的抛光组合物,包含下列组分:(a)水,(b)至少一种选自聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚和聚氧乙烯聚氧丙烯共聚物的化合物,(c)至少一种选自下列的化合物:硝酸、亚硝酸、硫酸、盐酸、钼酸、氨基磺酸、甘氨酸、甘油酸、苯乙醇酸、丙二酸、抗坏血酸、谷氨酸、二羟乙酸、苹果酸、乙醇酸、乳酸、葡糖酸、琥珀酸、酒石酸、马来酸、柠檬酸以及它们的盐,(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和碳化硅的磨料。
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公开(公告)号：CN1422922A
公开(公告)日：2003-06-11
申请号：CN02154315.1
申请日：2002-11-28
Applicant: 不二见株式会社
Inventor： 石桥智明
IPC: C09G1/18
CPC classification number: G11B5/8404 , C09G1/02
Abstract: 一种磁盘基材的抛光组合物,它含有:(a)抛光促进剂,该促进剂包含至少一种选自苹果酸、乙醇酸、丁二酸、柠檬酸、马来酸、衣康酸、丙二酸、亚氨基二乙酸、葡萄糖酸、乳酸、扁桃酸、巴豆酸、烟酸、硝酸铝、硫酸铝和硝酸铁(III)的化合物；(b)边缘下陷阻止剂,该阻止剂含有至少一种选自聚乙烯基吡咯烷酮、聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯和聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酸酯的化合物；(c)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛和碳化硅的研磨剂,和(d)水。
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