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公开(公告)号：CN115406377B
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202211047949.8
申请日：2022-08-30
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种建立理论光谱库的方法及装置、形貌参数测量方法及装置，该建立理论光谱库的方法能够提高创建理论光谱库的速度，包括：获取待测量样品的形貌模型，将形貌模型划分为M个分块，并获取每个分块的初始形貌参数；多次浮动每个分块的至少一个初始形貌参数，得到每个分块的多组参考形貌参数；根据每个分块的初始形貌参数，确定每个分块的初始子构型，根据每个分块的多组参考形貌参数，确定每个分块的多个参考子构型，划分为多个片层，得到每个分块的子构型的片层划分结果；得到形貌模型的所有的子构型；得到形貌模型的所有子构型分别对应的片层划分结果；分别计算形貌模型的每个子构型对应的理论光谱，得到形貌模型对应的理论光谱库。
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公开(公告)号：CN113343182B
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202110736991.X
申请日：2021-06-30
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明提供一种理论光谱数据的优化方法、系统、电子设备及测量方法，优化方法包括：获取一在X、Y方向均具有周期性结构的样品模型；获取样品模型在X、Y方向上的收敛级次对集合；设定收敛级次对组；遍历收敛级次对集合中的收敛级次对组，获取收敛级次对组中每一收敛级次对的去除均方误差；将去除均方误差与第一阈值进行比较，过滤所有小于第一阈值的去除均方误差对应的收敛级次对，形成优化级次对集合；获取优化级次对集合对应的理论光谱数据。本发明在收敛级次对集合中通过第一阈值过滤去除均方误差较小的收敛级次对，优化后的收敛级次对集合的级次对的个数比原先的收敛级次对集合中级次对的个数少，从而有效提升理论光谱数据的计算效率。
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公开(公告)号：CN112163341B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202011062137.1
申请日：2020-09-30
Applicant: 华中科技大学 , 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G06F30/20 , G06F17/14 , G06F111/10
Abstract: 本发明公开了一种周期性光栅结构的光学特性建模方法、装置和存储介质，属于光学关键尺寸测量技术领域，所述方法包括：获取周期性光栅结构内材料的介电常数；将周期性光栅结构拆分为若干包含一种材料的区域；基于格林公式将各个区域的面积分转化为各个区域边界的线积分；利用线积分表示各个区域对应的多边形顶点的显式解析表达式；从各个显式解析表达式中获取各个区域对应的介电常数傅里叶系数，基于各个区域对应的介电常数傅里叶系数确定周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数；利用周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数实现周期性光栅结构的光学特性建模。本发明简化获取周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数的过程，提高光学特性建模的效率。
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公开(公告)号：CN117077015A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310946140.7
申请日：2023-07-28
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G06F18/2411 , G01N21/21 , G01N21/35 , G01N21/55 , G06F18/27 , G06F18/214
Abstract: 本发明提供一种校准模型的训练方法及测量光谱的校准方法，训练方法包括：基于目标量测设备分别采集各待测样品对应的多条第一测量光谱，基于参考量测设备分别采集各待测样品对应的多条第二测量光谱；基于各待测样品对应的多条第一测量光谱，分别计算得到各待测样品对应的第一穆勒光谱及多条归一化光谱；基于各待测样品对应的多条第二测量光谱，计算得到各待测样品对应的仿真光谱；基于各待测样品对应的仿真光谱、第一穆勒光谱及多条归一化光谱，构建训练数据集；及基于训练数据集对目标量测设备的校准模型进行训练，获得训练后的校准模型，训练后的校准模型用于对目标量测设备采集的待校准测量光谱校准；本发明利于提高测量光谱校准的精度、校准效率及校准稳定性。
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公开(公告)号：CN117030017A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202310902425.0
申请日：2023-07-21
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明涉及光学测量技术领域，提供获取理论光谱的方法和获取待测参数的方法。获取理论光谱的方法包括：在任一波长条件下，获取第一方位角条件下的零级反射系数；对第一方位角条件下的零级反射系数进行转换，得到第二方位角条件下的理论光谱的值；遍历所有波长，以基于得到的第二方位角条件下的所有波长对应的理论光谱的值，获得第二方位角条件下的理论光谱。本发明能够基于第一方位角条件下的零级反射系数，转换获得任意第二方位角条件下的理论光谱，大大提高了计算效率，减少了计算量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115406377A
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202211047949.8
申请日：2022-08-30
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种建立理论光谱库的方法及装置、形貌参数测量方法及装置，该建立理论光谱库的方法能够提高创建理论光谱库的速度，包括：获取待测量样品的形貌模型，将形貌模型划分为M个分块，并获取每个分块的初始形貌参数；多次浮动每个分块的至少一个初始形貌参数，得到每个分块的多组参考形貌参数；根据每个分块的初始形貌参数，确定每个分块的初始子构型，根据每个分块的多组参考形貌参数，确定每个分块的多个参考子构型，划分为多个片层，得到每个分块的子构型的片层划分结果；得到形貌模型的所有的子构型；得到形貌模型的所有子构型分别对应的片层划分结果；分别计算形貌模型的每个子构型对应的理论光谱，得到形貌模型对应的理论光谱库。
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公开(公告)号：CN113343182A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110736991.X
申请日：2021-06-30
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明提供一种理论光谱数据的优化方法、系统、电子设备及测量方法，优化方法包括：获取一在X、Y方向均具有周期性结构的样品模型；获取样品模型在X、Y方向上的收敛级次对集合；设定收敛级次对组；遍历收敛级次对集合中的收敛级次对组，获取收敛级次对组中每一收敛级次对的去除均方误差；将去除均方误差与第一阈值进行比较，过滤所有小于第一阈值的去除均方误差对应的收敛级次对，形成优化级次对集合；获取优化级次对集合对应的理论光谱数据。本发明在收敛级次对集合中通过第一阈值过滤去除均方误差较小的收敛级次对，优化后的收敛级次对集合的级次对的个数比原先的收敛级次对集合中级次对的个数少，从而有效提升理论光谱数据的计算效率。
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公开(公告)号：CN112163341A
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202011062137.1
申请日：2020-09-30
Applicant: 华中科技大学 , 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G06F30/20 , G06F17/14 , G06F111/10
Abstract: 本发明公开了一种周期性光栅结构的光学特性建模方法、装置和存储介质，属于光学关键尺寸测量技术领域，所述方法包括：获取周期性光栅结构内材料的介电常数；将周期性光栅结构拆分为若干包含一种材料的区域；基于格林公式将各个区域的面积分转化为各个区域边界的线积分；利用线积分表示各个区域对应的多边形顶点的显式解析表达式；从各个显式解析表达式中获取各个区域对应的介电常数傅里叶系数，基于各个区域对应的介电常数傅里叶系数确定周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数；利用周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数实现周期性光栅结构的光学特性建模。本发明简化获取周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数的过程，提高光学特性建模的效率。
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公开(公告)号：CN118999351A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202411076797.3
申请日：2024-08-07
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G01B11/00 , G01N21/21 , G01N21/55 , G06N3/0499 , G06N3/08
Abstract: 本发明公开一种结构参数确定方法，涉及基于光谱确定结构参数的技术领域，该方法包括：获取样品上周期性结构的测量光谱；将测量光谱输入预先训练好的参数确定模型中，以使参数确定模型根据测量光谱确定周期性结构的结构参数，参数确定模型是在基于训练样本集中的训练样本子集训练神经网络模型得到中间模型后再基于训练样本集训练中间模型得到的模型，参数确定模型收敛于全局最优点。上述技术方案，将获取到的样品上周期性结构的测量光谱输入参数确定模型，参数确定模型对测量光谱进行处理以确定测量光谱的结构参数，收敛于全局最优点的参数确定模型可以根据测量光谱确定较为准确的结构参数，实现准确确定样品上周期性结构的结构参数。
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公开(公告)号：CN115540779A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202211060933.0
申请日：2022-08-30
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明涉及一种获取理论光谱的方法、形貌参数测量方法及装置。周期性结构包括若干周期单元，该方法包括：沿周期性结构底部到顶部的方向Z，将所述形貌模型划分出多个片层；基于每个所述片层在所述方向Z的介质分布，获取相应片层介电系数沿周期方向的连续函数；然后计算每个所述片层的介电系数的傅里叶系数；最后利用严格耦合波分析算法，计算得到周期性结构的理论光谱。本发明避免了对模型划分的片层侧面轮廓的近似，使得RCWA计算中形貌模型的处理更加贴合样品实际形貌模型，得到了每个片层的介电系数的连续函数，提高了介电系数的傅里叶系数计算精度，提高了理论光谱计算精度和计算效率。
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