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公开(公告)号：CN118692953A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202410694310.1
申请日：2024-05-30
Applicant: 华中科技大学 , 上海精测半导体技术有限公司
IPC: H01L21/67 , H01J37/317 , H01J37/244 , G06F18/27 , G06N3/0442 , G06N3/045 , G06N3/084 , G06N3/096 , G06N3/0985
Abstract: 本发明属于晶片工艺参数提取相关技术领域，其公开了一种光调制光学反射率晶片中离子注入工艺参数的提取方法及系统，方法包括：对光调制光学反射率的晶片样本进行载流子照明实验，获得不同离子注入工艺参数下的功率曲线；构建多任务神经网络模型，所述多任务神经网络模型包括M个前馈网络以及N个对M个前馈网络进行集成的门控网络；以所述功率曲线为输入，以对应的工艺参数为输出，对所述多任务神经网络模型进行训练；将待测晶片样本的功率曲线输入训练完成的多任务神经网络模型获得对应的工艺参数。本申请可以实现晶片的注入工艺参数的精确提取。
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公开(公告)号：CN118565395A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410596107.0
申请日：2024-05-14
Applicant: 华中科技大学 , 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明属于X射线散射测量相关技术领域，其公开了一种基于X射线的纳米结构参数提取方法及装置，其中方法包括：S1，对标准样品进行X射线散射测量，根据散射强度建模公式以及标准样品的已知绝对散射强度，计算标定因子；S2，对待测样品进行X射线散射测量，根据散射强度建模公式以及标定因子，获取待测样品的绝对散射强度的测量值；S3，通过仿真获取待测样品的绝对散射强度的仿真值，根据仿真值与测量值的差异，优化获取待测样品的尺寸参数信息。本发明提出先标定待测样品的小角X射线绝对散射强度，然后利用绝对散射强度的测量值对仿真值进行优化，进而提取出尺寸参数信息，能够在单入射角下实现纳米结构X射线关键尺寸快速测量。
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公开(公告)号：CN118243611A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202311534887.8
申请日：2023-11-16
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G01N21/01 , G01N21/88 , G01N21/956
Abstract: 本发明提供一种待测样品缺陷检测方法，包括：将二维周期点照明光场对准待测样品，采集关注区域的第一远场显微图像；基于第一远场显微图像与理想远场显微图像的第一差分图像判定关注区域是否存在缺陷并对缺陷进行标定，标定包括：在多个检测位置处采集关注区域的远场显微图像，计算远场显微图像与理想远场显微图像之间的差分图像，根据缺陷在每个检测位置处的差分图像中扰动信号强度，确定缺陷的位置和缺陷的类型。本发明中二维周期点照明光场是基于检测系统参数设计的，不依赖于待测样品的形貌，因此基于二维周期点照明光场对待测样品进行缺陷检测，对待测样品形貌无限制，对非周期、周期、不同图案都能够进行检测，且能够实现缺陷的精确定位。
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公开(公告)号：CN112163341B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202011062137.1
申请日：2020-09-30
Applicant: 华中科技大学 , 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G06F30/20 , G06F17/14 , G06F111/10
Abstract: 本发明公开了一种周期性光栅结构的光学特性建模方法、装置和存储介质，属于光学关键尺寸测量技术领域，所述方法包括：获取周期性光栅结构内材料的介电常数；将周期性光栅结构拆分为若干包含一种材料的区域；基于格林公式将各个区域的面积分转化为各个区域边界的线积分；利用线积分表示各个区域对应的多边形顶点的显式解析表达式；从各个显式解析表达式中获取各个区域对应的介电常数傅里叶系数，基于各个区域对应的介电常数傅里叶系数确定周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数；利用周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数实现周期性光栅结构的光学特性建模。本发明简化获取周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数的过程，提高光学特性建模的效率。
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公开(公告)号：CN115790469A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211548473.6
申请日：2022-12-05
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明提供了一种基于小角X射线散射测量集成电路套刻误差的方法及装置，所述方法包括获取集成电路中套刻偏移测量标记的形貌结构及其关键尺寸信息；基于小角X射线散射模型，结合套刻误差测量标记的形貌结构和所述关键尺寸信息，获取套刻偏移测量标记的形状因子；基于套刻偏移测量标记的形状因子，建立小角度X射线入射至所述套刻偏移测量标记时的理论散射光强模型；对理论散射光强模型进行调制并确定调制后的散射光强为目标衍射级次位置处的峰值位置；根据所述峰值位置、所述目标衍射级次位置和所述套刻偏移量目标值计算在所述套刻偏移测量标记下的套刻误差。本发明能够快速计算不同形状套刻结构的套刻误差，并提高了测量结果的准确性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115436404A
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202210933666.7
申请日：2022-08-04
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G01N23/20 , G01N23/20008 , G01N23/2055 , G02B21/06 , G02B21/36
Abstract: 本发明提供一种计算相位成像方法及系统，采集照明光束入射样品后的包含噪声的远场衍射光强，采用相干衍射成像方法对样品和照明光束复振幅信息进行迭代重构，对迭代过程施加动态激活函数，用于抑制噪声对计算收敛的扰动，具备跳出局部最优陷阱能力，最终获得全局最优解。本发明解决了现有相位计算成像方法在噪声扰动下成像分辨率损失严重、算法不收敛等技术问题。
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公开(公告)号：CN112163341A
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202011062137.1
申请日：2020-09-30
Applicant: 华中科技大学 , 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G06F30/20 , G06F17/14 , G06F111/10
Abstract: 本发明公开了一种周期性光栅结构的光学特性建模方法、装置和存储介质，属于光学关键尺寸测量技术领域，所述方法包括：获取周期性光栅结构内材料的介电常数；将周期性光栅结构拆分为若干包含一种材料的区域；基于格林公式将各个区域的面积分转化为各个区域边界的线积分；利用线积分表示各个区域对应的多边形顶点的显式解析表达式；从各个显式解析表达式中获取各个区域对应的介电常数傅里叶系数，基于各个区域对应的介电常数傅里叶系数确定周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数；利用周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数实现周期性光栅结构的光学特性建模。本发明简化获取周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数的过程，提高光学特性建模的效率。
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公开(公告)号：CN119901686A
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202411993944.3
申请日：2024-12-31
Applicant: 华中科技大学 , 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本申请属于相干衍射成像领域，具体公开了一种基于亚梯度投影正则的叠层衍射成像重构方法及系统。通过本申请，依据亚梯度投影的凸问题优化理论，在叠层衍射成像重构模型中，进一步地引入空间变化梯度加权函数来自适应地调节更新步长，提升迭代收敛速度。该方法可以在不引入任何额外的计算开销下，通过惩罚或抑制更新过程中的极值步长，实现支持域内的收敛速度均衡提升。此外，该方法无需任何硬件修改，可以与叠层衍射成像模型直接兼容，同时降低了重构过程中迭代算法的参数灵敏度，无需精细调参即可实现鲁棒地收敛。
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公开(公告)号：CN119066351A
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202411157961.3
申请日：2024-08-22
Applicant: 华中科技大学 , 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G06F18/15 , G01N23/201 , G01N23/202 , G01N23/20033 , G06F18/213 , G06N3/0464 , G06N3/084
Abstract: 本申请属于小角散射数据处理技术领域，具体公开了一种基于机器学习的小角散射曲线消模糊方法及装置，其中方法包括：获取待消模糊的小角散射曲线，输入至预训练好的UNet权重模型，输出消模糊后的小角散射曲线；UNet权重模型基于消模糊UNet网络模型和点扩散函数预测UNet网络模型构建；其中，输出消模糊后的小角散射曲线，包括：将待消模糊的小角散射曲线输入至消模糊UNet网络模型，生成消模糊结果；将待消模糊的小角散射曲线对应的点扩散函数数据点个数构成的一维数组输入至点扩散函数预测UNet网络模型，生成点扩散函数预测结果；基于消模糊结果和点扩散函数预测结果进行卷积运算，生成消模糊后的小角散射曲线。
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公开(公告)号：CN118644453A
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202410755911.9
申请日：2024-06-12
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明提供一种缺陷检测方法，包括：对样品待检测结构分解以获取多个独立的子线条结构，并建立每一子线条结构相应的莫尔条纹光场图案；将所有子线条结构相应的莫尔条纹光场图案进行组合，得到组合光场图案；将组合光场图案投影至待检测结构的表面，生成结构照明光场；将结构照明光场对准待检测结构，采集待检测结构的远场显微图像；计算远场显微图像与理想远场显微图像的差分图像，基于差分图像判定待检测结构是否存在缺陷。本发明对样品待检测结构进行分解得到子线条结构，并对每一子线条结构设计相应的莫尔条纹光场图案，相比现有的整个待检测结构均设计相同的光场图案，能够更准备检测出待检测结构中的所有的缺陷位置，检测效率也比较高。
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