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公开(公告)号:CN104777717A
公开(公告)日:2015-07-15
申请号:CN201410011640.2
申请日:2014-01-10
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的折反射物镜像质补偿机构,其特征在于,其中包括:像质补偿机构,用于补偿投影像质。较之现有技术方案,本发明能够实现:1、能同时检测补偿反射镜反射表面的面型与温度;2、在对补偿镜面型进行控制的同时,可以检测当前反射表面面型,进行闭环控制提高调整精度;3、本发明提供的方案可以直接检测反射表面的面型再在背后补偿,从而不需要如上述专利所提出的需要复杂的蜂巢状结构。
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公开(公告)号:CN102243441A
公开(公告)日:2011-11-16
申请号:CN201010172670.3
申请日:2010-05-12
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种温度控制装置,用以控制一元件的温度。温度控制装置沿气体流向包括减压阀、涡流管、喷嘴。减压阀连接至气体输入接口,气体经过气体输入接口进入温度控制装置,减压阀调节气体气压并输出。涡流管包括入口、冷端和热端,入口连接至减压阀,涡流管处理气体后,分别从冷端和热端输出气体。喷嘴连接至冷端,输出气体对元件进行喷吹。控制器电性连接至减压阀,用以控制减压阀的输出的气体气压。一种具有温度控制装置的投影曝光装置及温度控制方法也一并提出。本发明提出的温度控制装置能够控制任何利用冷气流进行温度控制的元件,方法简洁,应用灵活。
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公开(公告)号:CN106197738A
公开(公告)日:2016-12-07
申请号:CN201510268845.3
申请日:2015-05-24
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor: 梁任成
Abstract: 本发明公开了一种物镜内部温度分布和应变测量系统及其测量方法,该系统包括:若干光纤、设于每根光纤内的若干布拉格光栅组、与光纤对应设置的光源和光谱分析仪,光纤设于镜筒内壁和/或镜片表面,且两端伸出镜筒外连接光源和光谱分析仪,若干布拉格光栅组的中心波长不同。本发明通过在光纤内设置若干布拉格光栅组,同时在光纤上连接光源和光谱分析仪,不仅可以实时测量物镜内不同位置的温度变化,最终得到整体的温度分布情况,且根据光谱分析仪中得到的光波数据进行计算,避免了由于装配、环境、应力等问题而带来的测量误差,提高了系统的测量精确度和稳定性,对后期温控补偿或成像质量的分析提供更完善的依据,提高了光刻机的成像质量。
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公开(公告)号:CN102243441B
公开(公告)日:2015-06-17
申请号:CN201010172670.3
申请日:2010-05-12
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种温度控制装置,用以控制一元件的温度。温度控制装置沿气体流向包括减压阀、涡流管、喷嘴。减压阀连接至气体输入接口,气体经过气体输入接口进入温度控制装置,减压阀调节气体气压并输出。涡流管包括入口、冷端和热端,入口连接至减压阀,涡流管处理气体后,分别从冷端和热端输出气体。喷嘴连接至冷端,输出气体对元件进行喷吹。控制器电性连接至减压阀,用以控制减压阀的输出的气体气压。一种具有温度控制装置的投影曝光装置及温度控制方法也一并提出。本发明提出的温度控制装置能够控制任何利用冷气流进行温度控制的元件,方法简洁,应用灵活。
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公开(公告)号:CN104777717B
公开(公告)日:2017-04-12
申请号:CN201410011640.2
申请日:2014-01-10
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的折反射物镜像质补偿机构,其特征在于,其中包括:像质补偿机构,用于补偿投影像质。较之现有技术方案,本发明能够实现:1、能同时检测补偿反射镜反射表面的面型与温度;2、在对补偿镜面型进行控制的同时,可以检测当前反射表面面型,进行闭环控制提高调整精度;3、本发明提供的方案可以直接检测反射表面的面型再在背后补偿,从而不需要如上述专利所提出的需要复杂的蜂巢状结构。
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公开(公告)号:CN104677270A
公开(公告)日:2015-06-03
申请号:CN201310621202.3
申请日:2013-11-29
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种基于布拉格光栅的硅片对准补偿装置,其特征在于,包括:宽带光源,用于提供宽光谱探测光束;硅片对准系统,用于根据该对准光束,建立该硅片与掩模之间的坐标系对应关系;光纤,该光纤上包括布拉格光栅,该光纤的入射端用于接收该宽光谱探测光束;光谱仪,位于该光纤的另一端,用于探测经该布拉格光栅滤波后的宽光谱探测光束;该硅片对准补偿装置根据该光谱仪的探测数据,补偿该硅片对准系统的测量位置误差。
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公开(公告)号:CN201383626Y
公开(公告)日:2010-01-13
申请号:CN200920068701.3
申请日:2009-03-11
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本实用新型提供一种电气控制柜,用以安装整机设备的控制机箱,其包括:电气控制柜主体以及旋臂,所述旋臂的一端转动连接于所述整机设备,所述旋臂的另一端固定连接于所述电气控制柜主体,解决了电气控制柜与整机设备的分离问题,避免电气控制柜碰撞整机设备或相关系统,本实用新型所提供的电气控制柜还提高了散热效率,并将电气控制柜内部热气排放到集成电路车间专用的废气管道中,避免影响工作环境的温度。
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