-
公开(公告)号：CN118259559B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202410383008.4
申请日：2024-03-29
Applicant: 上海交通大学 , 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种参数控制方法以及曝光方法，参数控制方法包括：在扫描曝光前，获取基板面形数据和掩模面形数据；基于基板面形数据和掩模面形数据，得到工件台调整量和物镜调整量，并形成工件台运动轨迹和物镜运动轨迹；对物镜运动轨迹进行平滑处理，得到平滑后的物镜调整量，以使得物镜运动时间不大于工件台运动时间或曝光档位切换时间；基于工件台调整量形成第一系数，基于平滑后的物镜调整量形成第二系数。如此配置，通过优化物镜运动轨迹，使得物镜运动时间与工件台运动时间或曝光档位切换时间相匹配，曝光时间不在受限于物镜运动时间，有效提升了曝光设备的产率，也避免因曝光档位调整造成的曝光场的过曝或欠曝现象，提升了产品的良率。
-
公开(公告)号：CN118259559A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202410383008.4
申请日：2024-03-29
Applicant: 上海交通大学 , 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种参数控制方法以及曝光方法，参数控制方法包括：在扫描曝光前，获取基板面形数据和掩模面形数据；基于基板面形数据和掩模面形数据，得到工件台调整量和物镜调整量，并形成工件台运动轨迹和物镜运动轨迹；对物镜运动轨迹进行平滑处理，得到平滑后的物镜调整量，以使得物镜运动时间不大于工件台运动时间或曝光档位切换时间；基于工件台调整量形成第一系数，基于平滑后的物镜调整量形成第二系数。如此配置，通过优化物镜运动轨迹，使得物镜运动时间与工件台运动时间或曝光档位切换时间相匹配，曝光时间不在受限于物镜运动时间，有效提升了曝光设备的产率，也避免因曝光档位调整造成的曝光场的过曝或欠曝现象，提升了产品的良率。
-
公开(公告)号：CN113777896B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202010519014.X
申请日：2020-06-09
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提供一种对准装置及其对准方法、光刻机，对准装置包括至少两个对准单元，位于待曝光的基板上方；所述至少两个对准单元包括至少一个透光层对准单元和至少一个阻光层对准单元；所述透光层对准单元被配置为对所述基板中透光膜层的前层对准标记进行测量，所述阻光层对准单元被配置为对所述基板中的透光膜层和/或阻光膜层的前层对准标记进行测量；所有的所述透光层对准单元与所有的所述阻光层对准单元沿第一方向排列成一排，所述第一方向垂直于扫描方向，所述第一方向与所述扫描方向均平行于所述基板。本发明提供一种对准装置及其对准方法、光刻机，以实现透光层对准单元与阻光层对准单元在工艺需要时可以切换使用，从而提升了工艺适应性。
-
公开(公告)号：CN115537718A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202110739637.2
申请日：2021-06-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明实施例公开了一种张网控制方法，张网控制系统执行该张网控制方法，张网控制系统包括视觉测量装置和张网设备；张网控制方法包括：张网设备控制物料移动至预定张网位置；物料具有z组标记，预定张网位置处一一对应的设置有与每组标记对应的目标位置；视觉测量装置测量第i组标记所在位置与第i组标记所对应的第i目标位置的第i位置偏差，根据第i位置偏差参数计算第i对准补偿量；张网设备根据第i对准补偿量对物料进行补偿调节，使物料移动至第i目标位置；至少一个对准补偿量的对准精度小于前一对准补偿量的对准精度。本发明中，张网流程多阶段控制，范围逐渐缩小，且精度逐步提升，使得张网过程由粗到细控制，提升了张网效率和精度。
-
公开(公告)号：CN115478244A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202110602413.7
申请日：2021-05-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种张网设备，用于将目标对象固定于目标网框上，包括：至少一对运动调节机构，每对运动调节机构沿第一方向设置且并列排布于目标对象的相对两侧，运动调节机构包括夹持单元、第一移动单元和设于夹持单元上的标记单元，夹持单元用于夹持目标对象，第一移动单元用于带动夹持单元沿第一方向移动；视觉装置设置于夹持单元的上方，用于通过与标记单元对准，以获取夹持单元的当前位置坐标；控制装置用于计算当前位置坐标与目标位置坐标之间的位置偏差，并根据位置偏差控制第一移动单元移动，直至夹持单元运动至目标位置坐标。本发明使得运动调节机构的调整次数减少，提升了张网设备的调整的效率，有利于提高张网作业的效率。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112697186A
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN201911011711.8
申请日：2019-10-23
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G01D18/00
Abstract: 本发明公开了一种测量校正装置和测量校正方法。该测量校正装置包括：承载单元、基准单元、测量单元以及处理单元；承载单元包括朝向测量单元一侧的承载面，承载面包括第一区域以及包围第一区域的第二区域，第一区域用于承载待测样品，第二区域用于承载基准单元；基准单元固定于承载单元的第二区域；基准单元包括多个定位标记，定位标记在承载面内具有理论位置信息；测量单元用于测量至少部分定位标记在承载面的实际位置信息，并将实际位置信息传输至处理单元；处理单元用于根据实际位置信息和理论位置信息得到定位标记的位置校正信息。本发明的技术方案可减小测量校正误差，有利于精确校正，从而提高位置信息的测量精度。
-
公开(公告)号：CN109211117B
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201710527292.8
申请日：2017-06-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种测量系统，包括线宽测量单元、焦面检测及轮廓测量单元、离焦粗测单元和标记搜索定位单元。所述测量系统可以实现CD测量、标记搜索定位、剖面轮廓测量与焦面检测。本发明还公开了一种线宽测量系统，包括线宽测量单元与焦面检测及轮廓测量单元、离焦粗测单元和标记搜索定位单元中至少一个。本发明还公开了一种线宽测量装置。本发明还公开了一种线宽测量方法。
-
公开(公告)号：CN112147849A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201910578477.0
申请日：2019-06-28
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种曝光装置、光刻设备及曝光方法，曝光装置包括曝光单元、至少一个物料承载运动单元、与所述至少一个物料承载运动单元一一对应的至少一个物料传送单元、第一定位检测单元、第二定位检测单元、位姿调整单元。物料承载运动单元可在物料传送单元的等待工位和曝光单元的曝光工位之间移动，第一定位检测单元，用于在所述物料承载运动单元位于所述等待工位时，检测物料的位姿；第二定位检测单元，用于在所述物料承载运动单元位于所述曝光工位时，检测或校验物料的位姿；位姿调整单元，用于根据所述第一定位检测单元或所述第二定位检测单元的检测结果，调整物料的位置和姿态。本发明实施例能够提高曝光装置的曝光精度。
-
-
公开(公告)号：CN109581703A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201710900097.5
申请日：2017-09-28
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G02F1/13
Abstract: 本发明提供了一种治具、测试装置及方法，包括底座和设置于底座上的定位基准单元、夹紧单元、吸附单元、压接单元和点灯信号板，所述夹紧单元能够相对所述定位基准单元移动并使得所述显示屏被夹持在所述夹紧单元和所述定位基准单元之间，当所述显示屏定位好以后，所述吸附单元吸附住所述显示屏，所述压接单元实现所述点灯信号板与所述显示屏的FPC接口的信号连接。所述夹紧单元在底座上运动，以将尺寸不同的显示屏夹持在所述定位基准单元与所述夹紧单元之间，实现了治具的通用性，降低了生产成本。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
57
records
(took 0.047 seconds)
