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公开(公告)号：CN114682971A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202011634914.5
申请日：2020-12-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种张网装置及张网方法，所述张网装置包括导轨单元和夹持单元。所述导轨单元包括两个导轨，两个所述导轨沿第一方向设置且并列排布于所述目标框架的相对两侧。所述夹持单元包括两对以上夹持件，每对所述夹持件对称设置于两个所述导轨上，用于夹持沿第二方向设置的所述掩模条的两端。其中，每对所述夹持件被配置为在两个所述导轨上沿第一方向同步移动，以将所述掩模条运输至所述目标框架上的待固定区域，且每对所述夹持件分别在两个所述导轨上沿第二方向移动，以移动和\或拉伸所述掩模条。因此，本发明通过设置两对以上的夹持件，以实现在张网焊接过程中同时对两个以上的掩模条进行固定，大大提高张网焊接的效率，降低产品的时间成本。
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公开(公告)号：CN113777896A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202010519014.X
申请日：2020-06-09
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提供一种对准装置及其对准方法、光刻机，对准装置包括至少两个对准单元，位于待曝光的基板上方；所述至少两个对准单元包括至少一个透光层对准单元和至少一个阻光层对准单元；所述透光层对准单元被配置为对所述基板中透光膜层的前层对准标记进行测量，所述阻光层对准单元被配置为对所述基板中的透光膜层和/或阻光膜层的前层对准标记进行测量；所有的所述透光层对准单元与所有的所述阻光层对准单元沿第一方向排列成一排，所述第一方向垂直于扫描方向，所述第一方向与所述扫描方向均平行于所述基板。本发明提供一种对准装置及其对准方法、光刻机，以实现透光层对准单元与阻光层对准单元在工艺需要时可以切换使用，从而提升了工艺适应性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116047866A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202111266434.2
申请日：2021-10-28
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备，所述光刻设备的垂向控制方法包括：在扫描曝光过程中，使用基板调焦调平系统实时测量基板上表面形位置，并通过计算外推点位置把基板面形外推到物镜下方，从而获得当前时刻物镜视场下方基板面形测量值，所述基板面形测量值包含了工件台的瞬时垂向位置变化；同时，使用掩模台垂向传感器实时获得掩模台的位置变化，掩模台位置变化会引起焦面变化，把掩模台位置更新到曝光焦面上，获得当前时刻的曝光焦面；再控制工件台和物镜上可动镜片、物镜下可动镜片使基板面形和曝光焦面重合，从而能够解决面形测量时刻与曝光时刻运动台垂向位置变化对面形及焦面的影响的问题。
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公开(公告)号：CN115561967A
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202110744358.5
申请日：2021-07-01
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种用于校准拼接物镜拼接误差的方法及系统以及存储介质，应用于半导体设备制造领域。在本发明实施例中，通过将掩膜上的第一标记组移动到第一行物镜的视场中，并将第一行标记组曝光在基板的预定位置上，然后移动基板，将曝光有第一标记组的所述预定位置移动到第二行物镜的视场中，并将掩膜上的第二标记组曝光在基板的预定位置，再根据第一标记组和第二标记组中的标记在基板上的实际位置，精确获取两行物镜中需要拼接的两个相邻物镜之间的拼接误差，并通过所述拼接误差对需要拼接的两个相邻物镜进行补偿校准，从而可提高物镜拼接误差的估计精度。
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公开(公告)号：CN113777896B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202010519014.X
申请日：2020-06-09
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提供一种对准装置及其对准方法、光刻机，对准装置包括至少两个对准单元，位于待曝光的基板上方；所述至少两个对准单元包括至少一个透光层对准单元和至少一个阻光层对准单元；所述透光层对准单元被配置为对所述基板中透光膜层的前层对准标记进行测量，所述阻光层对准单元被配置为对所述基板中的透光膜层和/或阻光膜层的前层对准标记进行测量；所有的所述透光层对准单元与所有的所述阻光层对准单元沿第一方向排列成一排，所述第一方向垂直于扫描方向，所述第一方向与所述扫描方向均平行于所述基板。本发明提供一种对准装置及其对准方法、光刻机，以实现透光层对准单元与阻光层对准单元在工艺需要时可以切换使用，从而提升了工艺适应性。
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公开(公告)号：CN114682971B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202011634914.5
申请日：2020-12-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种张网装置及张网方法，所述张网装置包括导轨单元和夹持单元。所述导轨单元包括两个导轨，两个所述导轨沿第一方向设置且并列排布于所述目标框架的相对两侧。所述夹持单元包括两对以上夹持件，每对所述夹持件对称设置于两个所述导轨上，用于夹持沿第二方向设置的所述掩模条的两端。其中，每对所述夹持件被配置为在两个所述导轨上沿第一方向同步移动，以将所述掩模条运输至所述目标框架上的待固定区域，且每对所述夹持件分别在两个所述导轨上沿第二方向移动，以移动和\或拉伸所述掩模条。因此，本发明通过设置两对以上的夹持件，以实现在张网焊接过程中同时对两个以上的掩模条进行固定，大大提高张网焊接的效率，降低产品的时间成本。
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公开(公告)号：CN209296576U
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201822147081.4
申请日：2018-12-20
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本实用新型提供了一种掩模版透过率的测量装置，测量原理简单有效。可在工作台上安装点阵或者面阵CCD，并借助曝光照明单元，使用CCD采集掩模版阵列周期性图像信息及无掩模版时的背景图像信息。利用特定的图像算法处理这些图像信息，得到掩模版透过率。本实用新型提出的装置利用光刻机本身的结构测量掩模版的透过率，可实时处理得到的图像信息，利用灰度值得到掩模版的透过率，极大的提升了测试效率且能保证测试精度。
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