公开(公告)号：CN118259559B

公开(公告)日：2025-02-07

申请号：CN202410383008.4

申请日：2024-03-29

Applicant: 上海交通大学 ,  上海微电子装备(集团)股份有限公司

Inventor： 李煜芝 ,  戴文斌 ,  褚占占 ,  蓝科 ,  周畅

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种参数控制方法以及曝光方法，参数控制方法包括：在扫描曝光前，获取基板面形数据和掩模面形数据；基于基板面形数据和掩模面形数据，得到工件台调整量和物镜调整量，并形成工件台运动轨迹和物镜运动轨迹；对物镜运动轨迹进行平滑处理，得到平滑后的物镜调整量，以使得物镜运动时间不大于工件台运动时间或曝光档位切换时间；基于工件台调整量形成第一系数，基于平滑后的物镜调整量形成第二系数。如此配置，通过优化物镜运动轨迹，使得物镜运动时间与工件台运动时间或曝光档位切换时间相匹配，曝光时间不在受限于物镜运动时间，有效提升了曝光设备的产率，也避免因曝光档位调整造成的曝光场的过曝或欠曝现象，提升了产品的良率。

公开(公告)号：CN118259559A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202410383008.4

申请日：2024-03-29

Applicant: 上海交通大学 ,  上海微电子装备(集团)股份有限公司

Inventor： 李煜芝 ,  戴文斌 ,  褚占占 ,  蓝科 ,  周畅

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种参数控制方法以及曝光方法，参数控制方法包括：在扫描曝光前，获取基板面形数据和掩模面形数据；基于基板面形数据和掩模面形数据，得到工件台调整量和物镜调整量，并形成工件台运动轨迹和物镜运动轨迹；对物镜运动轨迹进行平滑处理，得到平滑后的物镜调整量，以使得物镜运动时间不大于工件台运动时间或曝光档位切换时间；基于工件台调整量形成第一系数，基于平滑后的物镜调整量形成第二系数。如此配置，通过优化物镜运动轨迹，使得物镜运动时间与工件台运动时间或曝光档位切换时间相匹配，曝光时间不在受限于物镜运动时间，有效提升了曝光设备的产率，也避免因曝光档位调整造成的曝光场的过曝或欠曝现象，提升了产品的良率。

公开(公告)号：CN116047866A

公开(公告)日：2023-05-02

申请号：CN202111266434.2

申请日：2021-10-28

Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司

Inventor： 褚占占 ,  李煜芝 ,  赵晓伟

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供了一种光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备，所述光刻设备的垂向控制方法包括：在扫描曝光过程中，使用基板调焦调平系统实时测量基板上表面形位置，并通过计算外推点位置把基板面形外推到物镜下方，从而获得当前时刻物镜视场下方基板面形测量值，所述基板面形测量值包含了工件台的瞬时垂向位置变化；同时，使用掩模台垂向传感器实时获得掩模台的位置变化，掩模台位置变化会引起焦面变化，把掩模台位置更新到曝光焦面上，获得当前时刻的曝光焦面；再控制工件台和物镜上可动镜片、物镜下可动镜片使基板面形和曝光焦面重合，从而能够解决面形测量时刻与曝光时刻运动台垂向位置变化对面形及焦面的影响的问题。

公开(公告)号：CN118068660A

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202410384564.3

申请日：2024-03-29

Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司

Inventor： 李煜芝 ,  褚占占 ,  蓝科 ,  周畅

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光设备，包括：工件台，掩模台，光学单元，包括光源和镜组；驱动单元，用于驱动物镜和/或工件台移动；测量单元，用于测量基板和/或掩模的面形数据；以及控制单元，被配置为，在扫描曝光前，形成工件台运动轨迹和/或物镜运动轨迹，并对物镜运动轨迹进行平滑处理，形成平滑后的物镜运动轨迹；在扫描曝光时，基于工件台运动轨迹和/或平滑后的物镜运动轨迹，向驱动单元发送运动指令。如此配置，通过优化物镜运动轨迹，使得物镜运动时间与工件台运动时间或曝光档位切换时间相匹配，曝光时间不在受限于物镜运动时间，有效提升了曝光设备的产率，也避免因曝光档位调整造成的曝光场的过曝或欠曝现象，提升了产品的良率。