一种负重位柔性工况条件下全足形态扫描装置

    公开(公告)号:CN120000202A

    公开(公告)日:2025-05-16

    申请号:CN202510160614.4

    申请日:2025-02-13

    Abstract: 本发明提供了一种负重位柔性工况条件下全足形态扫描装置,包括机架以及设置于所述机架上的弹性采集模块和扫描模块,所述弹性采集模块的下表面被设置适于在足部踩于其上表面时反映出足部处于负重位状态时的形态,所述扫描模块被设置适于获取足部形态,所述扫描模块基于线结构光扫描技术实现。该负重位柔性工况条件下全足形态扫描装置,采用线结构光扫描技术相结合的方式对足部进行扫描,避免了采集过程中足底部分形态细节丢失的问题,在装配时,可将装配有弹性件的探头尾部插入进入部内,并进一步将探头沿水平方向推动至限部内,配合限位保持架对探头在限位部内的位置进行约束,使探头仅能够沿竖直方向在限位部内侧活动。

Patent Agency Ranking