公开(公告)号：CN118438343A

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN202410692055.7

申请日：2024-05-31

Applicant: 上海工程技术大学

Inventor： 王宝秀 ,  易江凡 ,  汪文君 ,  陈佳鹏 ,  江振林 ,  孙韬

IPC: B24B37/24 ,  B24D18/00

Abstract: 本发明属于聚氨酯材料技术领域，涉及一种有机压电聚氨酯抛光垫及其制备方法。制备方法：在制备聚氨酯抛光垫的过程中，于聚醚多元醇与异氰酸酯反应前，向聚醚多元醇中分批加入PVDF纤维，并搅拌至PVDF纤维均匀地分散在聚醚多元醇中，最终得到的聚氨酯抛光垫即为有机压电聚氨酯抛光垫；制得的有机压电聚氨酯抛光垫包括聚氨酯基体和PVDF纤维，聚氨酯基体具有孔洞结构，PVDF纤维以网状结构分布在聚氨酯基体中。本发明的方法简单，制得的有机压电聚氨酯抛光垫具有良好的抛光效果与抛光效率。

公开(公告)号：CN118221897A

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN202410319238.4

申请日：2024-03-20

Applicant: 上海工程技术大学

Inventor： 易江凡 ,  汪文君 ,  王宝秀 ,  陈佳鹏 ,  江振林 ,  骆慧 ,  孙韬

IPC: C08G18/48 ,  C08K9/06 ,  C08K3/24 ,  C08K3/22 ,  B24B37/24 ,  C08G101/00

Abstract: 本发明属于聚氨酯抛光垫领域，涉及一种压电聚氨酯抛光垫及其制备方法，压电聚氨酯抛光垫材质为改性聚氨酯，改性聚氨酯为分子链中嵌有羟基化改性压电材料颗粒的聚氨酯；制备方法为：在制备聚氨酯抛光垫的过程中，于聚醚多元醇与异氰酸酯反应前，在聚醚多元醇中加入羟基化改性压电材料颗粒，最终得到的聚氨酯抛光垫即为压电聚氨酯抛光垫。本发明的制备方法简单，制得的聚氨酯抛光垫具有压电效应，在CMP抛光过程中的抛光效果与抛光效率优异。

公开(公告)号：CN113370001A

公开(公告)日：2021-09-10

申请号：CN202110571775.4

申请日：2021-05-25

Applicant: 上海工程技术大学

Inventor： 孙韬 ,  步峥峥 ,  汪文君

IPC: B24B1/00 ,  B24B37/00 ,  B24B57/02

Abstract: 本发明公开了一种硅衬底化学机械抛光方法，其步骤为：使用含磨料粒子的抛光液对抛光垫进行激活处理，激活处理包括预抛光处理，预抛光处理是指使用含磨料粒子的抛光液对抛光垫进行抛光；将待加工工件置于激活处理后的抛光垫上方，使用不含磨料粒子的抛光液对待加工工件的表面进行抛光加工。本发明的硅衬底化学机械抛光方法，大大简化了硅衬底加工工艺步骤，减少了硅溶胶等磨料粒子的使用，降低了研发成本以及生产设备的投入；在保持了相对较高的切削率的情况下，节约了磨料，保护了人员和环境；其相比于现有成熟工艺改动幅度不大，可方便地使用本发明的方法替换现有成熟工艺，极具应用前景。