公开(公告)号：CN1908813A

公开(公告)日：2007-02-07

申请号：CN200610030241.6

申请日：2006-08-21

Applicant: 上海大学

Inventor： 王林军 ,  夏义本 ,  任玲 ,  蒋丽雯 ,  刘健敏 ,  苏青峰

IPC: G03F1/14

Abstract: 本发明涉及一种X射线光刻掩模版的制备方法，属光刻掩模版制造技术领域。本发明主要采用热丝化学气相沉积法沉积的金刚石薄膜作为X射线光刻掩模基膜材料，并通过改进的工艺参数和后期处理工艺，改善金刚石薄膜的性能，提高金刚石薄膜的光学透过率和表面平整度。通过对硅片的预处理、金刚石薄膜的沉积、去除部分硅片开出圆形透光宽口并形成硅支撑以及金刚石薄膜上贴附一层重金属金膜层，最终制成具有掩模暴光图形的掩模板。

公开(公告)号：CN100510957C

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：CN200610030241.6

申请日：2006-08-21

Applicant: 上海大学

Inventor： 王林军 ,  夏义本 ,  任玲 ,  蒋丽雯 ,  刘健敏 ,  苏青峰

IPC: G03F1/14

Abstract: 本发明涉及一种X射线光刻掩模版的制备方法，属光刻掩模版制造技术领域。本发明主要采用热丝化学气相沉积法沉积的金刚石薄膜作为X射线光刻掩模基膜材料，并通过改进的工艺参数和后期处理工艺，改善金刚石薄膜的性能，提高金刚石薄膜的光学透过率和表面平整度。通过对硅片的预处理、金刚石薄膜的沉积、去除部分硅片开出圆形透光宽口并形成硅支撑以及金刚石薄膜上贴附一层重金属金膜层，最终制成具有掩模曝光图形的掩模板。