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公开(公告)号:CN106544641B
公开(公告)日:2019-08-23
申请号:CN201610920894.5
申请日:2016-10-21
Applicant: 上海交通大学 , 上海交闵精密耐磨器件有限公司
Abstract: 本发明涉及一种制备硬质合金基体金刚石涂层的喷砂预处理方法;该方法针对硬质合金基体;首先,采用喷砂技术对硬质合金基体表面进行冲蚀粗化,然后采用酸处理以对基体进行脱钴,制备出适合金刚石薄膜生长的均匀粗化的表面形貌。本发明涉及的预处理方法与常规酸碱两步法预处理相比,可以有效控制硬质合金基体表面粗糙度,极大提高金刚石涂层沉积初期的形核密度,并且在预处理后不会形成疏松层,有效提高了金刚石涂层与基体的附着力。该预处理方法不受基体形状的限制,适用于复杂形状硬质合金基体的金刚石涂层制备,且操作简单、应用方便,生产效率高、无污染,产业化前景光明,因而具有显著地经济效益。
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公开(公告)号:CN117364051A
公开(公告)日:2024-01-09
申请号:CN202311213787.5
申请日:2023-09-19
Applicant: 上海交通大学
IPC: C23C16/02 , C25D13/00 , C23F1/28 , C23F1/44 , C23C16/27 , C23G1/20 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C25D13/02 , C25D13/20
Abstract: 本发明涉及一种制备硬质合金表面金刚石涂层的布晶预处理方法,采用经过酸碱预处理的钨钴类硬质合金作为涂层衬底材料,应用电泳辅助静电自组装布晶方法,在衬底材料表面涂覆一层密集均匀的金刚石晶种:首先制备含有稳定剂、具有特定pH值的纳米金刚石悬浮液,然后将衬底放入含有该悬浮液的电泳装置植晶后冲洗吹干。本发明采用电泳辅助静电自组装布晶技术作为化学气相沉积金刚石涂层生长的预处理工艺流程之一,可在任意复杂形状衬底材料表面实现高密度均匀布晶,缩短后续金刚石形核时间,实现沉积厚度与质量均匀、具有优异附着力的金刚石涂层,大幅提升原有涂层工具的使用寿命,对保证涂层刀具的高效使用及提升产品质量具有重大意义。
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公开(公告)号:CN103757601A
公开(公告)日:2014-04-30
申请号:CN201410005575.2
申请日:2014-01-06
Applicant: 上海交通大学 , 上海交友钻石涂层有限公司 , 苏州交钻纳米超硬薄膜有限公司
IPC: C23C16/27 , C23C16/448
Abstract: 本发明公开了一种金刚石涂层高温高压喷雾喷嘴的制备方法;所述方法包括:采用经过预处理的硬质合金或SiC/Si3N4陶瓷喷嘴作为涂层衬底材料,通过双衬底直拉穿孔热丝排布法在喷嘴内孔表面沉积金刚石涂层,再通过平行热丝排布法在喷嘴入口锥面沉积金刚石涂层。本发明采用热丝化学气相沉积法通过“两步布丝沉积”的技术方案实现在高温高压喷雾干燥喷嘴整个工作表面沉积厚度和质量均匀、具有优异冲蚀磨损性能的金刚石涂层,大幅度提高原有喷嘴的使用寿命,对保证喷雾装备的安全运行、提高产品的质量意义重大。
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公开(公告)号:CN103757600A
公开(公告)日:2014-04-30
申请号:CN201410005272.0
申请日:2014-01-06
Applicant: 上海交通大学 , 上海交友钻石涂层有限公司 , 苏州交钻纳米超硬薄膜有限公司
IPC: C23C16/27
Abstract: 本发明公开了一种化学气相沉积制备硅掺杂微纳复合金刚石薄膜的方法;首先采用含硅有机化合物作为硅掺杂源,采用热丝化学气相沉积法在衬底表面制备硅掺杂金刚石薄膜,然后原位沉积不掺杂微米金刚石薄膜,以制备硅掺杂复合金刚石薄膜。与现有技术相比,本发明可以更加精确地控制碳源或硅掺杂源和碳源混合溶液的流量并实现定量掺杂,硅掺杂复合金刚石薄膜既具有优异的附着性能,又具有极高的表面硬度和耐磨损性能,适用于对金刚石薄膜的附着性能和耐磨损性能综合要求很高的各类应用场合。
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公开(公告)号:CN102337515A
公开(公告)日:2012-02-01
申请号:CN201110330198.6
申请日:2011-10-26
Abstract: 一种金刚石制造技术领域的金刚石涂层高温高压差阀的制备方法,采用经预处理的WC-Co硬质合金YG6或SiC\Si3N4陶瓷作为涂层衬底材料,通过直拉穿孔热丝法制备金刚石涂层阀座;并采用经过预处理的WC-Co硬质合金YG6作为涂层衬底材料,通过阶梯排布热丝法制备金刚石涂层阀芯,最后阀芯通过阀芯夹夹持,再用螺纹和销与阀杆固定连接,阀座热镶入压套,通过衬套、节流孔板与装入阀体内腔得到金刚石涂层高温高压差阀。本发明采用热丝化学气相沉积法通过穿孔直拉热丝和阶梯排布热丝两种技术方案实现,可大幅度提高原有减压阀的使用寿命,对保证装备的安全运行意义重大。
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公开(公告)号:CN108559970B
公开(公告)日:2019-11-01
申请号:CN201711280418.2
申请日:2017-12-06
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本发明公开了一种复杂形状金刚石薄膜涂层刀具的HFCVD批量制备方法;将预处理后的复杂形状刀具刀柄插入刀具冷却底座后,放置在HFCVD设备水冷工作台上;刀具冷却底座由钼片层、石墨层、紫铜层或不锈钢层择优搭配而成;刀具冷却底座上设有与刀柄直径和长度相匹配的钻孔;HFCVD设备采用单层热丝;HFCVD设备在刀具安装及薄膜生长过程中,通过控制水冷工作台升降可实现刀具冷却底座自由升降;通入氢气、碳源及掺杂源在复杂形状刀具表面沉积单层或复合金刚石薄膜。本发明能够方便、有效地控制刀具刀刃区域温度数值,保证温度场及反应基团密度场的均匀分布,保证金刚石薄膜的均匀沉积,避免刀柄位置积碳杂质沉积造成“黑杆”现象。
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公开(公告)号:CN106926148A
公开(公告)日:2017-07-07
申请号:CN201710072261.8
申请日:2017-02-08
Applicant: 上海交通大学 , 上海交友钻石涂层有限公司
IPC: B24D18/00
Abstract: 本发明公开了一种利用化学气相沉积制备单层金刚石磨料工具的方法;该方法针对碳化硅基体,将金刚石磨料混入光刻胶溶液并将其超声振荡,利用旋转甩胶均匀分散金刚石磨粒,实现其在基体衬底均匀分布,采用CVD方法在金刚石磨粒和碳化硅基体之间沉积金刚石涂层结合剂,将磨料与基体牢固的连结起来,同时磨粒生长成为高品级立方八面体单晶颗粒。本发明制备的单层金刚石磨料工具磨粒把持力强,出露高度高,容屑空间大,避免了电镀和钎焊单层金刚石磨料工具缺点,适用于制备细粒度(5‑100μm)单层金刚石磨料工具。本发明制备的单层金刚石磨料工具在半导体、光学晶体、人造蓝宝石、玻璃等脆硬材料的高精密磨削加工领域,具有广阔应用前景。
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公开(公告)号:CN106544641A
公开(公告)日:2017-03-29
申请号:CN201610920894.5
申请日:2016-10-21
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本发明涉及一种制备硬质合金基体金刚石涂层的喷砂预处理方法;该方法针对硬质合金基体;首先,采用喷砂技术对硬质合金基体表面进行冲蚀粗化,然后采用酸处理以对基体进行脱钴,制备出适合金刚石薄膜生长的均匀粗化的表面形貌。本发明涉及的预处理方法与常规酸碱两步法预处理相比,可以有效控制硬质合金基体表面粗糙度,极大提高金刚石涂层沉积初期的形核密度,并且在预处理后不会形成疏松层,有效提高了金刚石涂层与基体的附着力。该预处理方法不受基体形状的限制,适用于复杂形状硬质合金基体的金刚石涂层制备,且操作简单、应用方便,生产效率高、无污染,产业化前景光明,因而具有显著地经济效益。
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公开(公告)号:CN116752115A
公开(公告)日:2023-09-15
申请号:CN202310863507.9
申请日:2023-07-13
Applicant: 上海交通大学 , 苏州艾基斯电子科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种高质量低应力双面抛光自支撑金刚石膜制备方法,包括如下步骤:S1、采用化学气相沉积法,在基体表面沉积金刚石膜;S2、对金刚石膜上表面进行抛光;S3、采用激光切割将金刚石膜与基体分离;S4、对切割面进行抛光,获得高质量低应力双面抛光自支撑金刚石膜。相比于传统的基于钼等基体的自然剥离法,该方法制备的金刚石膜应力及热变形小,质量高,初始面形精度高,更易于抛光,且可以分多次制备金刚石厚膜;相比于传统的基于硅等基体的湿刻蚀法,该方法对环境无污染,操作过程安全,并且可显著减少资源浪费。
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公开(公告)号:CN108559970A
公开(公告)日:2018-09-21
申请号:CN201711280418.2
申请日:2017-12-06
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本发明公开了一种复杂形状金刚石薄膜涂层刀具的HFCVD批量制备方法;将预处理后的复杂形状刀具刀柄插入刀具冷却底座后,放置在HFCVD设备水冷工作台上;刀具冷却底座由钼片层、石墨层、紫铜层或不锈钢层择优搭配而成;刀具冷却底座上设有与刀柄直径和长度相匹配的钻孔;HFCVD设备采用单层热丝;HFCVD设备在刀具安装及薄膜生长过程中,通过控制水冷工作台升降可实现刀具冷却底座自由升降;通入氢气、碳源及掺杂源在复杂形状刀具表面沉积单层或复合金刚石薄膜。本发明能够方便、有效地控制刀具刀刃区域温度数值,保证温度场及反应基团密度场的均匀分布,保证金刚石薄膜的均匀沉积,避免刀柄位置积碳杂质沉积造成“黑杆”现象。
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