公开(公告)号：CN117364051A

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN202311213787.5

申请日：2023-09-19

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 王新昶 ,  乔煜 ,  刘恩智 ,  李维汉 ,  张保财 ,  史苏芳

IPC: C23C16/02 ,  C25D13/00 ,  C23F1/28 ,  C23F1/44 ,  C23C16/27 ,  C23G1/20 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C25D13/02 ,  C25D13/20

Abstract: 本发明涉及一种制备硬质合金表面金刚石涂层的布晶预处理方法，采用经过酸碱预处理的钨钴类硬质合金作为涂层衬底材料，应用电泳辅助静电自组装布晶方法，在衬底材料表面涂覆一层密集均匀的金刚石晶种：首先制备含有稳定剂、具有特定pH值的纳米金刚石悬浮液，然后将衬底放入含有该悬浮液的电泳装置植晶后冲洗吹干。本发明采用电泳辅助静电自组装布晶技术作为化学气相沉积金刚石涂层生长的预处理工艺流程之一，可在任意复杂形状衬底材料表面实现高密度均匀布晶，缩短后续金刚石形核时间，实现沉积厚度与质量均匀、具有优异附着力的金刚石涂层，大幅提升原有涂层工具的使用寿命，对保证涂层刀具的高效使用及提升产品质量具有重大意义。

公开(公告)号：CN111716235A

公开(公告)日：2020-09-29

申请号：CN202010566904.6

申请日：2020-06-19

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 王新昶 ,  乔煜 ,  孙方宏

IPC: B24B31/10 ,  B24B31/00 ,  B24B31/12 ,  B24B31/14 ,  B24B41/06 ,  B24B51/00 ,  B24B49/00

Abstract: 本发明提供了一种加热辅助化学机械复合磨料流抛光装置及方法，包括液压系统、温度测量与反馈控制系统、加热系统、氧化剂注入系统、氧化剂排出系统、磨料、上磨料缸、下磨料缸、上活塞、下活塞以及夹具；夹具连接上磨料缸、下磨料缸，上磨料缸、下磨料缸内分别设置有上活塞、下活塞，上活塞、下活塞分别连接液压系统并能够在液压系统的作用下往复运动，磨料设置在上磨料缸和/或下磨料缸内；夹具夹持区域内为抛光反应区，温度测量与反馈控制系统能够控制加热系统对抛光反应区加热的温度；氧化剂注入系统和氧化剂排出系统分别能够向上下磨料缸注入和排出氧化剂。本发明采用机械抛光结合化学抛光再通过加热辅助的方式，提高了抛光的效率和质量。

公开(公告)号：CN116752115A

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202310863507.9

申请日：2023-07-13

Applicant: 上海交通大学 ,  苏州艾基斯电子科技有限公司

Inventor： 王新昶 ,  刘恩智 ,  乔煜 ,  褚洪建 ,  李维汉 ,  疏达 ,  史苏芳 ,  张保财

IPC: C23C16/27 ,  C23C16/56 ,  C30B29/04

Abstract: 本发明公开了一种高质量低应力双面抛光自支撑金刚石膜制备方法，包括如下步骤：S1、采用化学气相沉积法，在基体表面沉积金刚石膜；S2、对金刚石膜上表面进行抛光；S3、采用激光切割将金刚石膜与基体分离；S4、对切割面进行抛光，获得高质量低应力双面抛光自支撑金刚石膜。相比于传统的基于钼等基体的自然剥离法，该方法制备的金刚石膜应力及热变形小，质量高，初始面形精度高，更易于抛光，且可以分多次制备金刚石厚膜；相比于传统的基于硅等基体的湿刻蚀法，该方法对环境无污染，操作过程安全，并且可显著减少资源浪费。