基于激光熔覆的稀释率均匀性控制方法及其装置

    公开(公告)号:CN102323756B

    公开(公告)日:2013-08-21

    申请号:CN201110235085.8

    申请日:2011-08-16

    Abstract: 一种材料表面处理技术领域的基于激光熔覆的稀释率均匀性控制方法及其装置,通过红外增强CCD摄像机拍摄熔覆过程中的熔池图像并转换为温度场图像后得到实际熔池尺寸数据,根据设定熔池尺寸与实际熔池尺寸的差值作为偏差信号,采用PID算法对激光功率进行反馈控制,通过对设定熔池大小的调整实现稀释率调控。本发明使得用母材熔化的面积在激光熔覆涂层中所占的百分比在基板表面每一点相当,且激光熔覆时稀释率的调控变得简单、容易、可靠,而且避免了工件冷热状态差异等因素对稀释率的影响,使得基板表面熔覆涂层的各点的稀释率保持均匀一致。

    基于激光熔覆的稀释率均匀性控制方法及其装置

    公开(公告)号:CN102323756A

    公开(公告)日:2012-01-18

    申请号:CN201110235085.8

    申请日:2011-08-16

    Abstract: 一种材料表面处理技术领域的基于激光熔覆的稀释率均匀性控制方法及其装置,通过红外增强CCD摄像机拍摄熔覆过程中的熔池图像并转换为温度场图像后得到实际熔池尺寸数据,根据设定熔池尺寸与实际熔池尺寸的差值作为偏差信号,采用PID算法对激光功率进行反馈控制,通过对设定熔池大小的调整实现稀释率调控。本发明使得用母材熔化的面积在激光熔覆涂层中所占的百分比在基板表面每一点相当,且激光熔覆时稀释率的调控变得简单、容易、可靠,而且避免了工件冷热状态差异等因素对稀释率的影响,使得基板表面熔覆涂层的各点的稀释率保持均匀一致。

    一种非晶复合涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN113355670A

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN202110642341.9

    申请日:2021-06-09

    Abstract: 本发明提供了一种非晶复合涂层的制备方法,包括以下步骤:在碳纳米管表面镀NiP,得到预处理碳纳米管;将所述预处理碳纳米管与非晶合金粉末混合后进行球磨,得到复合粉末;在旋转磁场中将所述复合粉末采用激光熔覆工艺沉积在基材表面,得到非晶复合涂层。本发明先对碳纳米管进行预处理,在其表面镀NiP涂层,提高了与非晶合金粉末的结合强度,并在球磨时利用剪切力附着在非晶合金粉末表面,通过旋转磁场辅助激光熔覆工艺将碳纳米管引入非晶合金涂层中,解决了碳纳米管在熔池中难以维持原有结构的难题,实现了第二相的可控复合,不仅提高了非晶复合涂层的韧性,还降低了裂纹敏感性。

    一种镍基非晶合金粉末和镍基非晶复合涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN103060725A

    公开(公告)日:2013-04-24

    申请号:CN201310025419.8

    申请日:2013-01-22

    Abstract: 本发明公开了一种可以获得镍基非晶复合涂层的镍基非晶合金粉末及非晶复合涂层的激光制备方法,镍基非晶合金粉末主要由Ni、Fe、B、Si和Nb等5中元素组成,该粉末具有较强的非晶形成能力;采用同轴送粉的方式将镍基非晶合金粉末在低碳钢表面制备激光熔覆涂层,再采用高速激光重熔的方式制备非晶复合涂层。本发明制备的镍基非晶复合涂层具有良好的致密度,非晶体积含量高,硬度值高。这种涂层在耐磨、耐蚀、防辐射等领域具有极好的应用前景。

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