基于激光熔覆的稀释率均匀性控制方法及其装置

    公开(公告)号:CN102323756B

    公开(公告)日:2013-08-21

    申请号:CN201110235085.8

    申请日:2011-08-16

    Abstract: 一种材料表面处理技术领域的基于激光熔覆的稀释率均匀性控制方法及其装置,通过红外增强CCD摄像机拍摄熔覆过程中的熔池图像并转换为温度场图像后得到实际熔池尺寸数据,根据设定熔池尺寸与实际熔池尺寸的差值作为偏差信号,采用PID算法对激光功率进行反馈控制,通过对设定熔池大小的调整实现稀释率调控。本发明使得用母材熔化的面积在激光熔覆涂层中所占的百分比在基板表面每一点相当,且激光熔覆时稀释率的调控变得简单、容易、可靠,而且避免了工件冷热状态差异等因素对稀释率的影响,使得基板表面熔覆涂层的各点的稀释率保持均匀一致。

    基于激光熔覆的稀释率均匀性控制方法及其装置

    公开(公告)号:CN102323756A

    公开(公告)日:2012-01-18

    申请号:CN201110235085.8

    申请日:2011-08-16

    Abstract: 一种材料表面处理技术领域的基于激光熔覆的稀释率均匀性控制方法及其装置,通过红外增强CCD摄像机拍摄熔覆过程中的熔池图像并转换为温度场图像后得到实际熔池尺寸数据,根据设定熔池尺寸与实际熔池尺寸的差值作为偏差信号,采用PID算法对激光功率进行反馈控制,通过对设定熔池大小的调整实现稀释率调控。本发明使得用母材熔化的面积在激光熔覆涂层中所占的百分比在基板表面每一点相当,且激光熔覆时稀释率的调控变得简单、容易、可靠,而且避免了工件冷热状态差异等因素对稀释率的影响,使得基板表面熔覆涂层的各点的稀释率保持均匀一致。

    激光表面淬火淬硬层深度均匀性控制方法及其装置

    公开(公告)号:CN102358914B

    公开(公告)日:2013-05-01

    申请号:CN201110235185.0

    申请日:2011-08-16

    Abstract: 一种材料表面处理技术领域的激光表面淬火淬硬层深度均匀性控制方法及其装置,通过红外增强CCD摄像机拍摄淬火过程中加热区域的温度场图像,根据温度场图像分析得到实际加热峰值温度,并通过闭环控制反馈调控激光功率将实际加热峰值温度调整至激光表面淬火前设定的加热峰值温度,当设定的加热峰值温度与激光的移动速度为定值时,实现淬硬层深度在金属表面均匀一致。本发明使沿厚度方向温度超过相变点达到奥氏体状态并快速冷却形成马氏体淬硬层的区域的深度在金属表面每一点相当,并且激光表面淬火时既容易调控淬硬层深度,又保证金属表面不出现熔凝层或者过热层,且大大改善由于冷热状态不同引起的淬硬层深度在扫描方向上的不均匀性问题。

    激光表面淬火淬硬层深度均匀性控制方法及其装置

    公开(公告)号:CN102358914A

    公开(公告)日:2012-02-22

    申请号:CN201110235185.0

    申请日:2011-08-16

    Abstract: 一种材料表面处理技术领域的激光表面淬火淬硬层深度均匀性控制方法及其装置,通过红外增强CCD摄像机拍摄淬火过程中加热区域的温度场图像,根据温度场图像分析得到实际加热峰值温度,并通过闭环控制反馈调控激光功率将实际加热峰值温度调整至激光表面淬火前设定的加热峰值温度,当设定的加热峰值温度与激光的移动速度为定值时,实现淬硬层深度在金属表面均匀一致。本发明使沿厚度方向温度超过相变点达到奥氏体状态并快速冷却形成马氏体淬硬层的区域的深度在金属表面每一点相当,并且激光表面淬火时既容易调控淬硬层深度,又保证金属表面不出现熔凝层或者过热层,且大大改善由于冷热状态不同引起的淬硬层深度在扫描方向上的不均匀性问题。

    一种镍基非晶合金粉末和镍基非晶复合涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN103060725A

    公开(公告)日:2013-04-24

    申请号:CN201310025419.8

    申请日:2013-01-22

    Abstract: 本发明公开了一种可以获得镍基非晶复合涂层的镍基非晶合金粉末及非晶复合涂层的激光制备方法,镍基非晶合金粉末主要由Ni、Fe、B、Si和Nb等5中元素组成,该粉末具有较强的非晶形成能力;采用同轴送粉的方式将镍基非晶合金粉末在低碳钢表面制备激光熔覆涂层,再采用高速激光重熔的方式制备非晶复合涂层。本发明制备的镍基非晶复合涂层具有良好的致密度,非晶体积含量高,硬度值高。这种涂层在耐磨、耐蚀、防辐射等领域具有极好的应用前景。

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