一种单晶金刚石的等离子体刻蚀方法

    公开(公告)号:CN118727158A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202410761095.2

    申请日:2024-06-13

    Abstract: 本发明提供了一种单晶金刚石的等离子体刻蚀方法,包括以下步骤:将单晶金刚石晶种进行放入MPCVD设备,采用MPCVD法生长得到单晶金刚石。生长完成采用激光切割得到单晶金刚石片,之后将单晶金刚石放入乙醇溶液中进行超声清洗并用氮气吹干。清洗完成后放入MPCVD设备中进行氢或氢氧等离子体刻蚀,去除单晶金刚石表面缺陷,刻蚀完成后,再次将单晶金刚石片入乙醇溶液中进行超声清洗并用氮气吹干。本发明可对不同生长条件下得到的不同尺寸的单晶金刚石进行氢氧等离子体刻蚀,能够有效降低亚表面损伤,去除位错,降低表面粗糙度,提高表面质量,进一步提高单晶金刚石的加工精度、性能和使用寿命。

    一种基于刻蚀坑可控生长的原子级抛光系统和方法

    公开(公告)号:CN116732597A

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN202310708869.0

    申请日:2023-06-15

    Abstract: 一种电化学抛光领域的基于刻蚀坑可控生长的原子级抛光系统和方法,抛光系统包括抛光槽、清洗槽、送料机构、电化学抛光单元;其中抛光槽包括公转运动电机、公转电机基座、支撑杆旋转基座和“照度反馈”装置;清洗槽可容纳清洗液;送料机构包括水平驱动推杆,竖直驱动推杆,抓手机构,主要夹持电化学抛光单元进行空间位置转移;电化学抛光单元包括支撑杆、待抛光工件、自转电机、电解反应阴极板、自转电机控制器、上连接杆、下连接杆,负责夹持工件进行抛光或清洗,并且可以实现工件的自转运动。本发明还公开基于本抛光系统的电化学抛光方法,包括:抛光工艺设计,工件的运动形式,在线测量方法等;本发明可实现光学微结构元件的超精密原子级抛光。

    基于行星运动形式的全表面均匀抛光装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN116575105A

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202310709002.7

    申请日:2023-06-15

    Abstract: 一种高精度加工技术领域的基于行星运动形式的全表面均匀抛光装置及其使用方法,包括支撑杆、待抛光工件、自转电机、电解反应阴极板、自转电机控制器、公转电机、公转电机基座、支撑杆旋转基座、连接杆,支撑杆由绝缘抗腐蚀材料制成,可带动抛光部分器件同步转动;待抛光工件位于电解反应阴极板的下方,两者高度均可以上下调节;公转电机位于整个装置的最下方,通过上部平面与公转电机基座固定,上部转轴与支撑杆旋转基座固定,由此实现抛光部分器件和公转电机上部转轴同步转动。本发明通过工件的公转运动,加速反应产物离开工件表面,使得反应物在时间尺度上相对均匀。本发明结构简单、易于实现,成本较低,具有广泛的应用前景。

    基于光反射的表面粗糙度检测装置与方法

    公开(公告)号:CN116858138A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202310613077.5

    申请日:2023-05-29

    Abstract: 一种激光检测术领域的基于光反射的表面粗糙度检测装置,包括底盘、工件夹具、需检测工件、光准直器组件、光功率计组件、激光输入光纤;工件夹具用于固定工件,通过其底部螺纹孔以螺栓螺母固定的方法固定于底盘上;需检测工件通过其底部的螺纹孔以螺栓固定的方法固定于工件夹具上;光准直器组件包括光准直器、第一支撑架、第一三角形工装;光功率计组件包括光功率计、第二支撑架、第二三角形工装;激光输入光纤通过光纤转接头连接至光准直器组件。本发明可实现工件表面粗糙度的实时检测,能够应用于光学金属元件电化学抛光过程。

    生成高精度激励信号的光电映射转换装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN116551221A

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202310518495.6

    申请日:2023-05-10

    Abstract: 一种光电技术领域的生成高精度激励信号的光电映射转换装置及其使用方法,包括:用于固定各器件的装置底座、用于改变激光照度的电机转盘组件、用于完成光电转换的光敏元件组件、用于放大光电三极管输出电信号的放大电路、用于产生线状激光信号的激光发射器组件,电机转盘组件、光敏元件组件、激光发射器组件均通过其底部的支撑架以螺栓螺母固定的方法固定于装置底座上,激光发射器产生的线激光穿过电机转盘组件的转盘照射到光敏元件组件的光电三极管上。本发明可实现生成高精度的预设计激励电信号,能够应用于光学金属元件的优质、高效电化学抛光过程,提高了刻蚀过程的可持续性和稳定性。

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