透明导电膜和制备该透明导电膜的组合物

    公开(公告)号:CN1222483C

    公开(公告)日:2005-10-12

    申请号:CN98117535.X

    申请日:1998-06-17

    CPC classification number: H01B1/22 Y10T428/2991 Y10T428/2995

    Abstract: 本发明涉及低电阻和低反射率的透明导电膜,它具有高反射率的底涂层,其中含细金属粉末和黑色粉末,以及二氧化硅为基的低反射率上涂层。底涂层表面呈凹凸状。凸部平均高度为20-300纳米,平均厚度50-150纳米。凹部平均厚度为凸部厚度的50-85%。将细金属粉末和黑色粉末在溶剂中的分散溶液涂在透明基体上、通过干燥形成无粘结剂的导电膜。在该膜上涂覆烷氧基硅烷或其水解产物,形成二氧化硅为基的导电膜。

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