等离子体成膜装置以及等离子体成膜方法

    公开(公告)号:CN103597115A

    公开(公告)日:2014-02-19

    申请号:CN201180071560.0

    申请日:2011-08-30

    Inventor: 浜笃郎

    Abstract: 一种等离子体成膜装置,具有与被成膜物相向的高频电极以及与被成膜物连接的接地电极,使用在高频电极与接地电极之间发生的等离子体对被成膜物进行成膜,其中,高频电极具有:第1高频电极(101),与被成膜物(100)的第1被成膜面(113)相向;以及第2高频电极(102),与被成膜物中的和第1被成膜面相反一侧的第2被成膜面(114)相向,第1高频电极、第2高频电极以及接地电极(103)使得用于第1被成膜面的成膜的第1高频电极以及接地电极之间的等离子体、和用于第2被成膜面的成膜的第2高频电极以及接地电极之间的等离子体同时发生。

    太阳能电池的制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107924956A

    公开(公告)日:2018-04-17

    申请号:CN201580082173.5

    申请日:2015-10-21

    Abstract: 太阳能电池的制造方法包括:将具有包含第1浓度的杂质且具有第1电阻值的第1部位(61)和杂质的浓度是高于第1浓度的第2浓度且具有小于第1电阻值的第2电阻值的第2部位(62)的扩散层(6)形成于半导体基板(1)的受光面侧的步骤;将针对第1部位(61)的反射率大于针对第2部位(62)的反射率的检测光(70)照射到扩散层(6)的步骤;以及基于被扩散层(6)的各部位反射的检测光(70)的反射率的差异,检测扩散层(6)中的与第1反射率对应的第1部位(61)和与小于第1反射率的第2反射率对应的第2部位(62)的步骤。

    太阳能电池的制造方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107924956B

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201580082173.5

    申请日:2015-10-21

    Abstract: 太阳能电池的制造方法包括:将具有包含第1浓度的杂质且具有第1电阻值的第1部位(61)和杂质的浓度是高于第1浓度的第2浓度且具有小于第1电阻值的第2电阻值的第2部位(62)的扩散层(6)形成于半导体基板(1)的受光面侧的步骤;将针对第1部位(61)的反射率大于针对第2部位(62)的反射率的检测光(70)照射到扩散层(6)的步骤;以及基于被扩散层(6)的各部位反射的检测光(70)的反射率的差异,检测扩散层(6)中的与第1反射率对应的第1部位(61)和与小于第1反射率的第2反射率对应的第2部位(62)的步骤。

    太阳能电池的制造方法以及太阳能电池

    公开(公告)号:CN107851681A

    公开(公告)日:2018-03-27

    申请号:CN201580081781.4

    申请日:2015-09-07

    CPC classification number: H01L31/068 H01L31/18 Y02E10/50 Y02P70/521

    Abstract: 目的在于,在形成固相扩散源的膜后,接着在进行基于热处理的杂质扩散时,抑制杂质混入到背面,得到载流子寿命长的太阳能电池的制造方法,包括:在具有受光面(1A)以及背面(1B)的n型单晶硅基板(1)的受光面(1A)形成作为固相扩散源的BSG膜(2)的工序;以及热处理工序,加热n型单晶硅基板(1),使作为第2导电类型的杂质的硼从BSG膜(2)扩散而形成p型扩散层(7),在热处理工序之前,包括去除形成于背面1B的含硼生成物(4)、含氧化硅生成物(5)等固相扩散源的膜的工序。

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