半导体装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110574147A

    公开(公告)日:2019-12-13

    申请号:CN201780089939.1

    申请日:2017-04-28

    Inventor: 北野俊明

    Abstract: 在Si基板(1)之上设置有氮化物半导体层(2、3、4)。在氮化物半导体层(2、3、4)之上设置有栅极电极(5)、源极电极(6)以及漏极电极(7)。在漏极电极(7)之下,在Si基板(1)设置有与氮化物半导体层(2、3、4)相接的P型导电层(11)。

    半导体装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110574147B

    公开(公告)日:2023-01-10

    申请号:CN201780089939.1

    申请日:2017-04-28

    Inventor: 北野俊明

    Abstract: 在Si基板(1)之上设置有氮化物半导体层(2、3、4)。在氮化物半导体层(2、3、4)之上设置有栅极电极(5)、源极电极(6)以及漏极电极(7)。在漏极电极(7)之下,在Si基板(1)设置有与氮化物半导体层(2、3、4)相接的P型导电层(11)。

    半导体装置
    6.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN114270496A

    公开(公告)日:2022-04-01

    申请号:CN201980098431.7

    申请日:2019-08-30

    Inventor: 北野俊明

    Abstract: 半导体装置(1)具备:半导体材料的基材(11),其呈薄板状;表面电极(13),其配置于基材(11)的表面(11ff);背面电极(17),其覆盖基材(11)的背面(11fr);以及过孔(1h),其呈将表面电极(13)作为底且在背面(11fr)侧开口的孔状,并将表面电极(13)与背面电极(17)电连接,在背面(11fr)侧的周缘部配置有沿厚度方向突出的突出部(1p)。

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