公开(公告)号：CN104823267B

公开(公告)日：2017-08-04

申请号：CN201380062660.6

申请日：2013-11-29

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 岛田宪司 ,  尾家俊行 ,  中山亮太 ,  大户秀

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522

CPC classification number: C11D11/0047 ,  C11D3/3947 ,  C11D7/04 ,  C11D7/06 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/36 ,  C23G1/20 ,  C23G1/205 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/32139 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76883 ,  H01L23/53238 ,  H01L23/53295 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 通过用包含10～30质量％过氧化氢、0.005～10质量％季铵氢氧化物、0.005～5质量％氢氧化钾、0.000005～0.005质量％氨基多亚甲基膦酸、以及水的清洗液进行清洗，从而能够去除硬掩模(5)、有机硅氧烷系薄膜(6)、干法蚀刻残渣(8)以及光致抗蚀层(7)而不腐蚀低介电常数层间绝缘膜(4)、铜或铜合金等的布线材料(2)、阻隔金属层(1)以及阻隔绝缘膜(3)。另外，根据本发明的优选的方式，即使在清洗液中添加了酸的情况下也抑制铜布线的损伤、即使在清洗液添加了钛的情况下也不引起较大的过氧化氢的分解。

公开(公告)号：CN104823267A

公开(公告)日：2015-08-05

申请号：CN201380062660.6

申请日：2013-11-29

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 岛田宪司 ,  尾家俊行 ,  中山亮太 ,  大户秀

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522

CPC classification number: C11D11/0047 ,  C11D3/3947 ,  C11D7/04 ,  C11D7/06 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/36 ,  C23G1/20 ,  C23G1/205 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/32139 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76883 ,  H01L23/53238 ,  H01L23/53295 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 通过用包含10～30质量％过氧化氢、0.005～10质量％季铵氢氧化物、0.005～5质量％氢氧化钾、0.000005～0.005质量％氨基多亚甲基膦酸、以及水的清洗液进行清洗，从而能够去除硬掩模(5)、有机硅氧烷系薄膜(6)、干法蚀刻残渣(8)以及光致抗蚀层(7)而不腐蚀低介电常数层间绝缘膜(4)、铜或铜合金等的布线材料(2)、阻隔金属层(1)以及阻隔绝缘膜(3)。另外，根据本发明的优选的方式，即使在清洗液中添加了酸的情况下也抑制铜布线的损伤、即使在清洗液添加了钛的情况下也不引起较大的过氧化氢的分解。