感光性树脂组合物、蚀刻方法以及树脂构造体的制造方法

    公开(公告)号:CN112384857A

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN201980044443.1

    申请日:2019-07-08

    Abstract: 本发明的课题在于提供对含有15质量%~45质量%的碱金属氢氧化物及5质量%~40质量%的乙醇胺化合物的强碱性蚀刻液的耐性优异的感光性树脂组合物及利用该感光性树脂组合物的蚀刻方法,通过该感光性树脂组合物及利用该感光性树脂组合物的蚀刻方法以及树脂构造体的制造方法解决了所述课题,该感光性树脂组合物至少含有(A)碱可溶性树脂、(B)光聚合引发剂及(C)聚合性单体,含有5~80质量%的通式(i)表示的m+n为2以上且7以下的化合物作为(C)聚合性单体,或者在(A)碱可溶性树脂为苯乙烯及甲基丙烯酸的共聚物时含有通式(i)表示的m+n为2以上且20以下的化合物作为(C)聚合性单体,m+n为2以上且7以下的化合物的含量为80质量%以下。

    液晶聚合物用蚀刻液及液晶聚合物的蚀刻方法

    公开(公告)号:CN113614204A

    公开(公告)日:2021-11-05

    申请号:CN202080022278.2

    申请日:2020-03-25

    Abstract: 本发明的课题在于提供蚀刻后的液晶聚合物的形状与设计形状接近且能够以高的面内均匀性进行蚀刻的液晶聚合物用蚀刻液和液晶聚合物的蚀刻方法。液晶聚合物用蚀刻液和使用该蚀刻液的液晶聚合物的蚀刻方法的特征在于,该蚀刻液含有作为第1成分的5~45质量%的碱金属氢氧化物和作为第2成分的5~80质量%的分子量为70以上的烷醇胺化合物,优选进一步含有1~60质量%的第3成分,第3成分含有选自醇化合物和羧酸化合物中的至少1种。

    用于树脂组合物的蚀刻液和蚀刻方法

    公开(公告)号:CN110461920A

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201880021886.4

    申请日:2018-04-02

    Abstract: 本发明的课题在于,在去除包含碱不溶性树脂和无机填充剂的树脂组合物的加工中,提供含有该树脂组合物而成的树脂组合物层的不产生因过度发热而导致的缺陷、且能够仅去除树脂组合物层的蚀刻液或蚀刻方法。蚀刻液,在用于包含碱不溶性树脂和50~80质量%的无机填充剂的树脂组合物的蚀刻液中,该蚀刻液含有15~45质量%的碱金属氢氧化物、更优选进一步含有5~40质量%的乙醇胺化合物。此外,蚀刻方法,使用该蚀刻液,去除包含碱不溶性树脂和无机填充剂的树脂组合物。

    阻焊剂层的薄膜化装置
    6.
    实用新型

    公开(公告)号:CN215499769U

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202121236368.X

    申请日:2021-05-31

    Abstract: 本实用新型的课题在于,提供一种阻焊剂层的薄膜化装置,在阻焊剂层的薄膜化装置中,即使在将胶束的溶解除去速度极慢的阻焊剂层薄膜化的情况下,也不会残留无法利用胶束除去液完全除去的阻焊剂层,薄膜化面变得平滑。本发明的阻焊剂层的薄膜化装置的特征在于,是具备利用薄膜化处理液使没有固化的阻焊剂层的成分胶束化的薄膜化处理组件、和利用胶束除去液除去胶束的胶束除去处理组件而成的阻焊剂层的薄膜化装置,胶束除去处理组件具有胶束除去液供给用喷雾喷嘴,胶束除去液供给用喷雾喷嘴为固定式,并且,以使喷射方向为同一方向的方式配置,胶束除去液供给用喷雾喷嘴的喷雾图案为扇形。

    抗蚀剂层的薄膜化装置
    7.
    实用新型

    公开(公告)号:CN208188581U

    公开(公告)日:2018-12-04

    申请号:CN201820726922.4

    申请日:2018-05-16

    Abstract: 本实用新型的目标在于提供一种能够解决因气泡造成的处理不匀的问题的抗蚀剂层的薄膜化装置。在具备薄膜化处理单元的抗蚀剂层的薄膜化装置中,其特征在于,薄膜化处理单元具备装有薄膜化处理液(9)的浸涂槽(10)、将从浸涂槽(10)溢流的薄膜化处理液(9)储存的薄膜化处理液储存罐(13)、设置在薄膜化处理液储存罐(13)内的薄膜化处理液吸入口、设置在浸涂槽(10)内的薄膜化处理液供给口(11)、以及用来将从薄膜化处理液吸入口吸入的薄膜化处理液(9)向浸涂槽(10)供给的薄膜化处理液供给泵(14);在该薄膜化处理液吸入口处具备过滤部(24),该过滤部(24)的上表面侧被遮蔽。

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