公开(公告)号：CN1309861C

公开(公告)日：2007-04-11

申请号：CN02149828.8

申请日：1998-07-29

Applicant: 三菱住友硅晶株式会社 ,  三菱综合材料多晶硅股份有限公司

Inventor： 远山美晴 ,  黑田明寿 ,  木山德二 ,  木田纯生 ,  吉田俊治 ,  山本孝 ,  渥美彻弥

IPC: C23C16/24 ,  C23C16/448 ,  C30B25/02 ,  C30B29/06 ,  H01L21/205 ,  H01L21/365

CPC classification number: C23C16/45561 ,  B01F3/026 ,  B01F2013/1091 ,  C23C16/455 ,  C30B25/14 ,  C30B29/06

Abstract: 公开了一种外延生长用气体的供给装置。在气化器19中将液体原料加热至该液体的沸点以上的温度以使其气化，将气化的原料气与载气在混合器43中按预定的浓度混合，将该混合气在其露点以上的温度下加热保温，同时调节该温合气的流量，然后在将该混合气加热保温在其露点以上温度的条件下供入外延生长用反应炉51中。在气化器内将加热介质的温度保持恒定以使液体原料气化，根据气化器内的气压来调节供入气化器内的液体原料的供给量，这样能够将气化器的液位经常地保持恒定。

公开(公告)号：CN1508283A

公开(公告)日：2004-06-30

申请号：CN02149828.8

申请日：1998-07-29

Applicant: 三菱住友硅晶株式会社 ,  三菱综合材料多晶硅股份有限公司

Inventor： 远山美晴 ,  黑田明寿 ,  木山德二 ,  木田纯生 ,  吉田俊治 ,  山本孝 ,  渥美彻弥

IPC: C23C16/24 ,  C23C16/448 ,  C30B25/02 ,  C30B29/06 ,  H01L21/205 ,  H01L21/365

CPC classification number: C23C16/45561 ,  B01F3/026 ,  B01F2013/1091 ,  C23C16/455 ,  C30B25/14 ,  C30B29/06

Abstract: 公开了一种外延生长用气体的供给装置。在气化器19中将液体原料加热至该液体的沸点以上的温度以使其气化，将气化的原料气与载气在混合器43中按预定的浓度混合，将该混合气在其露点以上的温度下加热保温，同时调节该温合气的流量，然后在将该混合气加热保温在其露点以上温度的条件下供入外延生长用反应炉51中。在气化器内将加热介质的温度保持恒定以使液体原料气化，根据气化器内的气压来调节供入气化器内的液体原料的供给量，这样能够将气化器的液位经常地保持恒定。