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公开(公告)号:CN101170090A
公开(公告)日:2008-04-30
申请号:CN200710166886.7
申请日:2007-10-23
IPC: H01L23/485 , H01L21/60
CPC classification number: H01L23/3114 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L24/14 , H01L24/16 , H01L24/27 , H01L24/29 , H01L24/30 , H01L27/14618 , H01L27/14683 , H01L2224/0401 , H01L2224/05599 , H01L2224/13099 , H01L2224/29101 , H01L2224/2919 , H01L2924/0001 , H01L2924/00014 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01014 , H01L2924/01022 , H01L2924/01023 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01042 , H01L2924/0105 , H01L2924/01073 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/0665 , H01L2924/09701 , H01L2924/10156 , H01L2924/15151 , H01L2924/15311 , H01L2924/00 , H01L2924/3512
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可靠性高,且可实现更加小型化装置的封装型半导体装置及其制造方法。首先,准备半导体基板(2),该半导体基板(2)的表面上形成有器件元件(1)和焊盘电极(4)。接着,从半导体基板(2)的背面侧有选择地进行蚀刻,形成开口部(8)。然后,形成覆盖半导体基板(2)的侧面及背面的第二绝缘膜(9)。接着,有选择地除去开口部(8)底部的第一及第二绝缘膜(3、9),使焊盘电极(4)部分露出。然后,沿半导体基板(2)的侧面形成与露出的焊盘电极(4)电连接的配线层(10)。接着,形成覆盖配线层(10)的电极连接层(11)。然后,形成覆盖半导体基板(2)的背面侧、并在侧壁电极形成区域具有开口部的保护层(12)。最后,在保护层(12)的开口露出的区域形成侧壁电极(13)。
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公开(公告)号:CN100546021C
公开(公告)日:2009-09-30
申请号:CN200710166886.7
申请日:2007-10-23
IPC: H01L23/485 , H01L21/60
CPC classification number: H01L23/3114 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L24/14 , H01L24/16 , H01L24/27 , H01L24/29 , H01L24/30 , H01L27/14618 , H01L27/14683 , H01L2224/0401 , H01L2224/05599 , H01L2224/13099 , H01L2224/29101 , H01L2224/2919 , H01L2924/0001 , H01L2924/00014 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01014 , H01L2924/01022 , H01L2924/01023 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01042 , H01L2924/0105 , H01L2924/01073 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/0665 , H01L2924/09701 , H01L2924/10156 , H01L2924/15151 , H01L2924/15311 , H01L2924/00 , H01L2924/3512
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可靠性高,且可实现更加小型化装置的封装型半导体装置及其制造方法。首先,准备半导体基板(2),该半导体基板(2)的表面上形成有器件元件(1)和焊盘电极(4)。接着,从半导体基板(2)的背面侧有选择地进行蚀刻,形成开口部(8)。然后,形成覆盖半导体基板(2)的侧面及背面的第二绝缘膜(9)。接着,有选择地除去开口部(8)底部的第一及第二绝缘膜(3、9),使焊盘电极(4)部分露出。然后,沿半导体基板(2)的侧面形成与露出的焊盘电极(4)电连接的配线层(10)。接着,形成覆盖配线层(10)的电极连接层(11)。然后,形成覆盖半导体基板(2)的背面侧、并在侧壁电极形成区域具有开口部的保护层(12)。最后,在保护层(12)的开口露出的区域形成侧壁电极(13)。
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