公开(公告)号：CN101439898A

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：CN200810188703.6

申请日：2008-09-22

Applicant: 三洋电机株式会社

Inventor： 澄田康光 ,  笠原辰巳 ,  茂木一利 ,  梅泽浩之 ,  桑木康之

IPC: C02F1/58 ,  C02F9/04 ,  C02F1/66 ,  C01F11/22

CPC classification number: B01D71/26 ,  B01D61/147 ,  B01D65/02 ,  B01D67/0088 ,  B01D2311/04 ,  B01D2311/08 ,  B01D2315/06 ,  B01D2321/04 ,  B01D2321/185 ,  B01D2323/283 ,  C02F1/5236 ,  C02F1/66 ,  C02F11/121 ,  C02F2101/14 ,  C02F2103/346 ,  C02F2209/003 ,  C02F2209/06 ,  B01D2311/12 ,  B01D2311/2646 ,  B01D2311/2649

Abstract: 本发明提供一种氢氟酸处理装置，其在含氢氟酸的废水中添加钙而除去氟化物离子，在该装置中，需调整被处理水的pH，但在具有钙和氟化物离子的反应槽中调整pH，则处理效率降低。另外，pH计直接暴露于含有氢氟酸的废水中，则pH计的传感器易损坏。在向pH调整部的处理槽中加入氢氟酸时加入碱性药剂，使处理槽内第一被处理水pH比废水的大。另外，在处理槽上连接第三路径P3(循环路径)，使第一被处理水循环并调整pH，直至生成pH值在所希望范围的第二被处理水。由于将调整pH后的第二被处理水转移到与钙反应的反应槽中，可防止处理效率的降低。另外，在循环路径上设置pH计，而不是直接暴露于废水中，可保护其不受氢氟酸影响。