公开(公告)号：CN101179032A

公开(公告)日：2008-05-14

申请号：CN200710180978.0

申请日：2007-10-10

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李钟禹 ,  金兑承 ,  朴峻永 ,  郭源奎

IPC: H01L21/50 ,  H01L21/56 ,  H01L21/52

CPC classification number: B32B38/0008 ,  H01J9/261 ,  H01J17/18 ,  H01J2209/26 ,  H01L27/3244 ,  H01L51/5246

Abstract: 本发明公开了一种包括用于局部照射光的掩模的密封装置和利用该密封装置制造显示装置的方法。该密封装置用于通过将密封材料设置在第一基底和第二基底的边缘并且通过对密封材料照射光来结合第一基底和第二基底，该密封装置包括：掩模，设置在台的一侧上，在掩模中，与密封材料的形成位置对应地形成透射部分，从而光可以照射到密封材料；光头，通过掩模的透射部分对密封材料照射光。在掩模的透射部分中形成用于调节对密封材料照射的光的量的图案。

公开(公告)号：CN101009305A

公开(公告)日：2007-08-01

申请号：CN200710001782.0

申请日：2007-01-16

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李钟禹 ,  金兑承 ,  林大镐 ,  李浩硕

IPC: H01L27/32 ,  H01L21/56

Abstract: 本发明公开了一种有机发光显示器及其制造方法，其除采用密封剂外，还采用加强构件改善了装置的抗冲击和密封特性。第一基板包括像素区和非像素区，至少一个有机发光二极管形成在该像素区中，并且具有第一电极、有机层和第二电极，而非像素区形成在像素区的外围部分。第二基板接合到具有像素区的第一基板的一个区域上。熔料设置在第一基板的非像素区和第二基板之间，用于彼此粘结第一和第二基板。粘合剂沿着熔料的外围区域分布，并且至少包括两个不连续部分。加强构件设置在熔料和粘合剂之间。

公开(公告)号：CN101168834A

公开(公告)日：2008-04-30

申请号：CN200710126812.0

申请日：2007-06-27

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金兑承

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24

CPC classification number: H01L51/0011 ,  C23C14/042 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明公开了一种掩模和采用该掩模的沉积装置。掩模的一个实施例用于在具有多个子像素区的基底上沉积薄膜。该掩模包括具有多个第一开口的第一区域，每个第一开口与多个子像素区中的一个对应。该掩模还包括具有多个第二开口的第二区域，每个第二开口与多个子像素区中的至少两个对应。第二区域位于第一区域的两侧。

公开(公告)号：CN100354752C

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN03145465.8

申请日：2003-05-31

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 姜敞晧 ,  金兑承

IPC: G03F1/08 ,  H05B33/00

CPC classification number: C25D1/10 ,  Y10T29/49002 ,  Y10T29/49078 ,  Y10T29/49224

Abstract: 用于蒸发的掩模框架组件，包括掩模和支撑掩模的框架。掩模包括有一层预定图形的金属层，和为提高预定图形精度和掩模表面粗糙度形成在金属层表面上的一层涂层。

公开(公告)号：CN1953199A

公开(公告)日：2007-04-25

申请号：CN200610140236.0

申请日：2006-10-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔东洙 ,  朴镇宇 ,  金兑承

IPC: H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  H01L51/52

CPC classification number: H01L51/524 ,  H01L2251/566

Abstract: 本发明提供了一种有机发光显示装置，该装置包括：第一基底；有机发光像素的阵列，形成在基底上；第二基底，与第一基底相对。第一密封件将第一基底和第二基底相互连接，并包围有机发光像素的阵列。膜结构置于第二基底和有机发光像素的阵列之间，并与第二基底和阵列接触。