Patent search ap:("三星电子株式会社") AND inv:"黄炳㯙" Page 1

1.

发明公开
沉积设备审中-实审

公开(公告)号：CN115679287A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202210841861.7

申请日：2022-07-18

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 黄炳㯙 , 李尚昱 , 金圣协 , 金建佑 , 崔峻荣 , 郑相勋

IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/458

Abstract: 一种沉积设备包括其中具有至少一个第一进气口的腔室。固定卡盘安装在腔室中，并且静电卡盘安装在固定卡盘上。边缘环设置在静电卡盘的边缘上。喷头设置在边缘环上方。挡板设置在喷头上方，并且上电极设置在挡板上方。气体引导构件设置在上电极上方，使得设置在上电极中的流动路径与第一进气口连接。气体引导构件具有在朝上方向和朝下方向上穿透的流动路径孔，并且多个引导孔设置在气体引导构件的内表面上。

Patent Agency Ranking