公开(公告)号：CN101398624A

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200810165695.3

申请日：2008-09-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 姜律 ,  金学元 ,  金然柱 ,  崔成云 ,  金贤友 ,  罗惠燮 ,  金京泽

IPC: G03F7/028 ,  G03F7/004 ,  C07C321/12 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D339/08

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C309/65 ,  C07C381/12 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D339/08 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明涉及光致产酸剂、包括其的化学增幅抗蚀剂组合物及相关方法。由式1或式2表示的光致产酸剂，其中R1、R2和R3各自独立地为C1－C10烷基，X为与S+形成环的C3－C20脂环烃基团，并且该脂环烃基团中的至少一个CH2可被选自S、O、NH、羰基和R5－S+A－中的至少一种代替，其中R5为C1－C10烷基，且A－为平衡离子。

公开(公告)号：CN101398624B

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：CN200810165695.3

申请日：2008-09-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 姜律 ,  金学元 ,  金然柱 ,  崔成云 ,  金贤友 ,  罗惠燮 ,  金京泽

IPC: G03F7/028 ,  G03F7/004 ,  C07C321/12 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D339/08

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C309/65 ,  C07C381/12 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D339/08 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明涉及光致产酸剂、包括其的化学增幅抗蚀剂组合物及相关方法。由式1或式2表示的光致产酸剂，其中R1、R2和R3各自独立地为C1-C10烷基，X为与S+形成环的C3-C20脂环烃基团，并且该脂环烃基团中的至少一个CH2可被选自S、O、NH、羰基和R5-S+A-中的至少一种代替，其中R5为C1-C10烷基，且A-为平衡离子。(式1)，(式2)。