公开(公告)号：CN1614746A

公开(公告)日：2005-05-11

申请号：CN200410089772.3

申请日：2004-11-04

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金大一 ,  马东俊 ,  金国闰 ,  崔圣圭

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: H01J37/32697 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3211

Abstract: 本发明公开了一种螺旋谐振器等离子体处理设备。该等离子体处理设备包括：处理室，该处理室具有衬底托架，该衬底托架支撑待处理的衬底；设置在处理室上以便与处理室的内部空间相连通的介电管；围绕介电管的外管缠绕的螺旋线圈；以及向螺旋线圈供给RF功率的RF电源。介电管为双管形式，包括内管和外管。而在外管内设置等离子体源气体入口，用以将等离子体源气体供给到内管和外管之间的空间内。在介电管内设置控制电极，用以控制等离子体电势。这种等离子体处理设备提供了沿晶片径向的均匀等离子体密度分布，并易于控制处理室内的等离子体电势。

公开(公告)号：CN100423196C

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200410089772.3

申请日：2004-11-04

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金大一 ,  马东俊 ,  金国闰 ,  崔圣圭

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: H01J37/32697 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3211

Abstract: 本发明公开了一种螺旋谐振器等离子体处理设备。该等离子体处理设备包括：处理室，该处理室具有衬底托架，该衬底托架支撑待处理的衬底；设置在处理室上以便与处理室的内部空间相连通的介电管；围绕介电管的外管缠绕的螺旋线圈；以及向螺旋线圈供给RF功率的RF电源。介电管为双管形式，包括内管和外管。而在外管内设置等离子体源气体入口，用以将等离子体源气体供给到内管和外管之间的空间内。在介电管内设置控制电极，用以控制等离子体电势。这种等离子体处理设备提供了沿晶片径向的均匀等离子体密度分布，并易于控制处理室内的等离子体电势。