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公开(公告)号:CN103225072A
公开(公告)日:2013-07-31
申请号:CN201310032307.5
申请日:2013-01-28
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C23C16/44
CPC classification number: H01L21/02104 , C23C16/4401 , C23C16/4404 , C23C16/4412 , C23C16/455 , C23C16/45508 , C23C16/45563 , C23C16/45587 , C23C16/45591 , C23C16/4582
Abstract: 本发明提供一种气体排放单元以及包括其的薄膜沉积装置。该薄膜沉积装置包括:反应腔室;主盘,安装在反应腔室中;以及气体排放单元,设置在主盘外部。气体排放单元重新收集反应腔室中的气体,并包括:基底件,包括外侧壁、内侧壁以及连接外侧壁和内侧壁的下壁,并且是具有开口上部的环形件。至少一个通孔形成在下壁中。排放套管配置为插入到通孔中,其中在排放套管中形成气体出口。环形的上盖覆盖基底件的开口上部。在上盖中形成多个气体入口。
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公开(公告)号:CN108963041A
公开(公告)日:2018-12-07
申请号:CN201810083144.6
申请日:2018-01-29
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L33/325 , B82Y20/00 , H01L33/12 , H01L33/32 , H01L33/007
Abstract: 一种半导体发光装置,其包括缓冲层上的III族氮化物半导体层。缓冲层按次序包括第一层、第二层和第三层。第一层、第二层和第三层中的每一个包括包含铝(Al)、氮(N)和氧(O)的组合物。第一层和第三层中的每一个的氧浓度(原子/cm3)的最小值或平均值大于第二层的氧浓度(原子/cm3)的最小值或平均值。
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