-
公开(公告)号:CN103225072A
公开(公告)日:2013-07-31
申请号:CN201310032307.5
申请日:2013-01-28
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C23C16/44
CPC classification number: H01L21/02104 , C23C16/4401 , C23C16/4404 , C23C16/4412 , C23C16/455 , C23C16/45508 , C23C16/45563 , C23C16/45587 , C23C16/45591 , C23C16/4582
Abstract: 本发明提供一种气体排放单元以及包括其的薄膜沉积装置。该薄膜沉积装置包括:反应腔室;主盘,安装在反应腔室中;以及气体排放单元,设置在主盘外部。气体排放单元重新收集反应腔室中的气体,并包括:基底件,包括外侧壁、内侧壁以及连接外侧壁和内侧壁的下壁,并且是具有开口上部的环形件。至少一个通孔形成在下壁中。排放套管配置为插入到通孔中,其中在排放套管中形成气体出口。环形的上盖覆盖基底件的开口上部。在上盖中形成多个气体入口。
-
公开(公告)号:CN103765557A
公开(公告)日:2014-04-30
申请号:CN201180073030.X
申请日:2011-08-09
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/205
Abstract: 提供了一种气相沉积设备。根据本发明的气相沉积设备可以包括:反应腔室,在该反应腔室中,在晶圆上沉积并且生长外延薄膜,该反应腔室具有可旋转的基座,在该基座上安装晶圆;外壳,在其中布置所述反应腔室,该外壳具有可开启的窗口,使得能够将晶圆装载到反应腔室中或者从反应腔室移出;以及排气装置,用于将外壳内的气体排出到外部以调节内部压力。
-