公开(公告)号：CN119943706A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202411470355.7

申请日：2024-10-21

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴宪勇 ,  金延泰 ,  李璋辉 ,  裵祥佑 ,  李贞彻

IPC: H01L21/67 ,  C30B25/08 ,  C30B25/16 ,  C30B25/10 ,  C23C16/44 ,  C23C16/46 ,  C23C16/52

Abstract: 一种层沉积设备包括：处理室，所述处理室被配置提供用于处理衬底的空间，所述处理室包括限定内部空间的上腔室和下腔室；衬底支撑件，所述衬底支撑件设置在所述处理室内并且被配置为支撑所述衬底；灯加热部，所述灯加热部在所述处理室外部设置在所述上腔室上方，并且包括被配置为通过所述上腔室将光照射到所述衬底上的多个光源；以及干涉薄层图案，所述干涉薄层图案设置在所述上腔室的上表面上，并且被配置为反射来自所述多个光源的光的至少一部分。

公开(公告)号：CN117870550A

公开(公告)日：2024-04-12

申请号：CN202310764926.7

申请日：2023-06-26

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 张城豪 ,  裵祥佑 ,  徐敏焕 ,  成长云 ,  大久保彰律 ,  李昇祐 ,  李贞彻 ,  郑在晃 ,  洪尚俊

IPC: G01B11/02

Abstract: 提供了一种被配置为检测衬底的高度水平的水平传感器、以及包括该水平传感器的衬底处理装置。该水平传感器包括：测量光源，被配置为朝向衬底照射测量光；棱镜，被配置为将测量光的反射光分成第一偏振光和第二偏振光，并在第一偏振光和第二偏振光之间产生第一光程差；光程调制器，被配置为保持第一偏振光的光程恒定，并周期性地改变第二偏振光的光程；以及检测器，被配置为基于第一偏振光和第二偏振光之间的干涉信号来检测第一光程差。

公开(公告)号：CN117168363A

公开(公告)日：2023-12-05

申请号：CN202310444142.6

申请日：2023-04-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朱祉映 ,  金亨珍 ,  徐敏焕 ,  朱愿暾 ,  具东胤 ,  裵祥佑 ,  安成敏 ,  李俊圭 ,  洪允杓

IPC: G01B11/27

Abstract: 一种使用管芯接合系统将管芯接合到晶片的方法，该方法使用所获得的显示干涉条纹的图像来测量管芯和晶片之间的平行度。在一些实施例中，使用由管芯接合系统的光学装置产生的干涉条纹来检测平行度和管芯变形。平行度测量光学装置包括：光源、被配置为控制参考光和测量光的偏振的光学组件。在一些实施例中，测量光顺序地入射到沿垂直方向间隔开以彼此面对的第一测量表面和第二测量表面上并从第一测量表面和第二测量表面上反射，并且出射以具有关于第一测量表面与第二测量表面之间的平行度的信息。在一些实施例中，第一偏振器被配置为使从光学组件出射的参考光和测量光彼此干涉。光检测器被配置为检测包括干涉条纹的光的干涉信号。