公开(公告)号：CN1097091C

公开(公告)日：2002-12-25

申请号：CN97109669.4

申请日：1997-03-01

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 全相文 ,  李富燮 ,  金成日 ,  吉埈仍 ,  田弼权 ,  田美淑

IPC: C11D7/50 ,  G03F7/42

CPC classification number: G03F7/168 ,  G03F7/422

Abstract: 在制造半导体过程中的清洗剂制品的包括乳酸乙酯(EL)和3-乙氧基丙酸乙酯(EEP)，最好，它还包括γ-丁内酯。因此，晶片边缘或背侧的光刻胶能以足够快的速度有效地除去，因而可以提高半导体器件的成品率。另外，可完全除去的附着在表面上的残留光刻胶，以便能再利用该晶片，因而获得晶片的再利用和经济用途。

公开(公告)号：CN1177631A

公开(公告)日：1998-04-01

申请号：CN97109669.4

申请日：1997-03-01

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 全相文 ,  李富燮 ,  金成日 ,  峻仍 ,  田弼权 ,  田美淑

IPC: C11D7/50

CPC classification number: G03F7/168 ,  G03F7/422

Abstract: 在制造半导体过程中的清洗剂制品的包括乳酸乙酯(EL)和3－乙氧基丙酸乙酯(EEP),最好,它还包括γ－丁内酯。因此,晶片边缘或背侧的光刻胶能以足够快的速度有效地除去,因而可以提高半导体器件的成品率。另外,可完全除去的附着在表面上的残留光刻胶,以便能再利用该晶片,因而获得晶片的再利用和经济用途。