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公开(公告)号:CN107017285B
公开(公告)日:2021-07-06
申请号:CN201611101627.1
申请日:2016-12-02
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明公开了场效应晶体管以及包括该场效应晶体管的半导体器件。该半导体器件可以包括:沟道层,设置在基板上并且包括由第一材料制成的二维原子层;和源/漏层,设置在基板上并且包括第二材料。第一材料可以是磷的同素异形体之一,第二材料可以是碳的同素异形体之一,沟道层和源/漏层可以通过在第一和第二材料之间的共价键彼此连接。
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公开(公告)号:CN107017285A
公开(公告)日:2017-08-04
申请号:CN201611101627.1
申请日:2016-12-02
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L29/1606 , H01L29/04 , H01L29/0847 , H01L29/1037 , H01L29/1054 , H01L29/165 , H01L29/2003 , H01L29/22 , H01L29/24 , H01L29/267 , H01L29/517 , H01L29/778 , H01L29/78 , H01L29/786 , H01L29/16 , H01L29/785
Abstract: 本发明公开了场效应晶体管以及包括该场效应晶体管的半导体器件。该半导体器件可以包括:沟道层,设置在基板上并且包括由第一材料制成的二维原子层;和源/漏层,设置在基板上并且包括第二材料。第一材料可以是磷的同素异形体之一,第二材料可以是碳的同素异形体之一,沟道层和源/漏层可以通过在第一和第二材料之间的共价键彼此连接。
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