公开(公告)号：CN110323116B

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN201811245039.4

申请日：2018-10-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴赞训 ,  严正焕 ,  朴珍荣 ,  朴皓用 ,  邦晋荣 ,  宣种宇 ,  全尚珍 ,  韩济愚

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 提供了一种气体分布板和一种包括该气体分布板的等离子体处理设备。所述等离子体处理设备可以包括：支撑件，被构造为接收基底；气体分布板(GDP)，包括面对支撑件的多个喷嘴；主分流器，被构造为供应处理气体；以及附加分流器，被构造为供应加速气体或减速气体。多个喷嘴可以包括多个中心喷嘴、多个外围喷嘴、被构造为喷射处理气体和加速气体的多个中间喷嘴、多个第一喷嘴和多个第二喷嘴。

公开(公告)号：CN110323116A

公开(公告)日：2019-10-11

申请号：CN201811245039.4

申请日：2018-10-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴赞训 ,  严正焕 ,  朴珍荣 ,  朴皓用 ,  邦晋荣 ,  宣种宇 ,  全尚珍 ,  韩济愚

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 提供了一种气体分布板和一种包括该气体分布板的等离子体处理设备。所述等离子体处理设备可以包括：支撑件，被构造为接收基底；气体分布板(GDP)，包括面对支撑件的多个喷嘴；主分流器，被构造为供应处理气体；以及附加分流器，被构造为供应加速气体或减速气体。多个喷嘴可以包括多个中心喷嘴、多个外围喷嘴、被构造为喷射处理气体和加速气体的多个中间喷嘴、多个第一喷嘴和多个第二喷嘴。