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公开(公告)号：CN113969391A
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN202110734086.0
申请日：2021-06-30
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明涉及一种掩模及掩模制造方法。根据本发明的一实施例，掩模制造方法包括如下步骤：在工作台上提供限定多个单元开口部的掩模框架；在所述多个单元开口部中的每一个，提供限定多个第一区域以及布置于所述多个第一区域中的每一个周围的第二区域的单元掩模材料；向所述第二区域照射激光束以使所述第二区域固化；以及去除所述多个第一区域而形成布置于所述多个单元开口部的单元掩模。
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公开(公告)号：CN119530729A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202411173061.8
申请日：2024-08-26
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 一种用于制造沉积掩模的方法包括：在硅基底的前表面上沉积种子金属层；在种子金属层上形成第一光致抗蚀剂图案，第一光致抗蚀剂图案限定多个第一开口；在第一光致抗蚀剂图案的多个第一开口中生长镀层；通过去除第一光致抗蚀剂图案并保留镀层来形成掩模隔膜；在种子金属层的前表面上沉积保护层，以覆盖掩模隔膜的前表面；在硅基底的背表面上形成第二光致抗蚀剂图案，第二光致抗蚀剂图案限定分别与多个单元掩模对应的多个单元开口；通过使用第二光致抗蚀剂图案作为第一掩模对硅基底的背表面进行蚀刻来暴露种子金属层；通过使用第二光致抗蚀剂图案作为第二掩模对种子金属层进行蚀刻来暴露掩模隔膜的背表面；以及去除保护层。
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公开(公告)号：CN113759658A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202110591480.3
申请日：2021-05-28
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 提供了掩模制造设备和使用该掩模制造设备制造掩模的方法，所述掩模制造设备包括：第一台，掩模框架设置在第一台上，掩模框架包括在第一方向和与第一方向交叉的第二方向上布置的单体开口；传输模块，将单体掩模放置在掩模框架上，以使掩模框架的单体开口分别与单体掩模叠置；相机模块，拍摄单体掩模；第一处理模块，在边界部分与第N单体掩模的第一边缘区域之间照射第一激光束，边界部分与掩模框架的和第N单体开口相邻的部分对应，第一边缘区域设置在边界部分上；以及第二处理模块，向第一边缘区域与第二边缘区域之间的边界区域照射第二激光束，第二边缘区域从第一边缘区域延伸。N是自然数。
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公开(公告)号：CN104002041B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201410051654.7
申请日：2014-02-14
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: B23K26/064 , B23K26/70 , B23K26/02
CPC classification number: B23K26/127 , B23K26/0652 , B23K26/0676 , B23K26/082 , B23K26/0853 , B23K26/359 , B23K26/361 , B23K26/703
Abstract: 掩模制造设备包括室、激光束照射器、台、冷却系统和风扇。室中包括内部空间。室的至少一个上壁包括玻璃。激光束照射器设置在室的外部并被配置为将激光束分为多个子激光束以使子激光束照射至阴影掩模材料。台设置在室中，并且阴影掩模材料将放置在台上。冷却系统被配置为冷却内部空间。风扇被配置为将内部空间中生成的热量排放至室的外部。因此，可防止阴影掩模过热。
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公开(公告)号：CN103962719A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410026058.3
申请日：2014-01-21
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: B23K26/064 , B23K26/02 , B23K26/70
CPC classification number: G03F1/76 , B23K26/067 , G03F7/2053 , G03F7/70383 , G03F7/70875 , G03F7/2006
Abstract: 本发明公开一种掩模制造装置及利用激光束制造掩模的方法。一种掩模制造装置，其包括激光照射器、平台、框架和散热片。激光照射器将激光束分为多道子激光束并将子激光束照射到被放置在平台上的阴影掩模。框架设置在平台上来支撑阴影掩模。散热片接触阴影掩模材料，吸收从阴影掩模产生的热并将该热排出到阴影掩模的周围。因此，避免了阴影掩模过热。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119491189A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202411120832.7
申请日：2024-08-15
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 沉积掩模包括包含硅基底的掩模主体，其中，多个孔限定为穿过掩模主体，并且掩模主体还包括延伸以限定多个孔的多个掩模栅格。多个掩模栅格中的每一个的截面具有倒渐缩形状，倒渐缩形状具有从沉积掩模的后表面到上表面增加的宽度，并且限定多个孔的多个掩模栅格中的每一个的每个侧表面包括第一凹入弯曲表面。
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公开(公告)号：CN117858594A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202311241722.1
申请日：2023-09-25
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本公开涉及一种掩模组件和一种掩模组件制造方法。所述掩模组件包括：框架，包含连接以限定框架开口的第一侧部至第四侧部；开口片，包含：主体部，在所述主体部中限定多个片开口，所述多个片开口在第一方向和第二方向上布置，并且与所述框架开口重叠；以及连接部，从所述主体部突出并且至少部分地与所述框架重叠；以及多个掩模，所述多个掩模各自包含：沉积部，具有限定在所述沉积部中的沉积开口；以及多个耦接部，从所述沉积部突出并且彼此间隔开，且所述沉积部在所述多个耦接部之间。所述连接部包括：第一连接部和第二连接部，与所述框架重叠；以及多个第三连接部和多个第四连接部，至少部分地与所述框架重叠。
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公开(公告)号：CN117737647A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311216380.8
申请日：2023-09-20
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 公开掩模组件和制造该掩模组件的方法。该掩模组件包括：开放掩模，包括第一开放开口和第二开放开口，该第一开放开口和第二开放开口被限定穿过开放掩模并且在第一方向上交替布置；第一单元掩模，分别对应于第一开放开口；以及第二单元掩模，分别对应于第二开放开口。第一单元掩模中的每一个包括：第一沉积部分，第一沉积开口被限定穿过第一沉积部分；以及第一焊接部分和第二焊接部分，分别从第一沉积部分向第一方向和与第一方向相反的方向延伸。第二单元掩模中的每一个包括：第二沉积部分，第二沉积开口被限定穿过第二沉积部分；以及第三焊接部分和第四焊接部分，分别从第二沉积部分向第二方向和与第二方向相反的方向延伸。
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公开(公告)号：CN115992341A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202211279490.4
申请日：2022-10-19
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: C23C14/04
Abstract: 本发明提供了掩模。该掩模包括：第一子掩模；第二子掩模，在第一方向上面对第一子掩模并且包括在边界部分处与第一子掩模的边界表面接触的边界表面；以及联接条，设置在第一子掩模的下表面上和第二子掩模的下表面上以将第一子掩模连接到第二子掩模。第一子掩模、第二子掩模和联接条中的每一个包括开口。联接条的开口在联接条的厚度方向上与第一子掩模和第二子掩模的开口中的一部分对齐。
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公开(公告)号：CN114934253A
公开(公告)日：2022-08-23
申请号：CN202210112682.X
申请日：2022-01-29
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 提供了一种掩模，所述掩模包括：掩模框，包括基体部和涂覆部，基体部中限定有单元开口，涂覆部围绕单元开口的边缘，覆盖基体部的上表面的至少一部分，并且包括与基体部的材料不同的材料；以及单位掩模，位于掩模框上，分别对应于单元开口，包括与涂覆部的材料不同的材料，并且单位掩模中限定有开口。
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